电浆监视设备及方法

摘要

本发明涉及一种电浆监视设备，包括：一电浆供给装置，包括电源供应器、反应气体供给线、以及向被处理物发射产生于其中之电浆的发射喷嘴；一摄像单元，用以获得发射状态之图像；以及一控制器，用于藉由转换摄像单元之图像的像素资讯为数值化值，以取得一检测值，并与一参考值相比较，藉以检查电浆之发射状态，该参考值是正常发射状态下的一检测值。;本发明的电浆监视设备能够通过摄像单元获得电浆发射状态之图像，并由控制器分析所述图像以取得一检测值，该检测值是用于监视即时的电浆的状态及控制供给到电浆供给装置的反应气体的量和电浆放电条件，而使得电浆供给装置能够均匀发射电浆。

主权项

一种电浆监视设备，包括：一电浆供给装置，包括用于提供电源的一电源供应器、用于供给反应气体的一供给线、向一被处理物发射在所述电浆供给装置内部生成之电浆的一发射喷嘴；一摄像单元，获得表示由所述电浆供给装置发射之电浆的一发射状态之一图像；以及一控制器，用于藉由转换所述摄像单元之图像的像素资讯为一数值化值而得到一检测值，以及用于比较该检测值与一正常发射状态下的一参考值，以检查电浆之发射状态。如申请专利范围第1项所述之电浆监视设备，其中所述控制器根据比较该检测值与该参考值之一结果，调节由所述电浆供给装置之电源供应器所提供的电源，藉以控制电浆的一放电条件，从而调节电浆之发射量。如申请专利范围第1项所述之电浆监视设备，其中，所述电浆供给装置在所述供给线上设有用于调节供给的反应气体的供给量的一调节装置；所述控制器根据比较该检测值和该参考值之结果，通过所述电浆供给装置之该调节装置来调节发射的电浆的量。如申请专利范围第2项或第3项所述之电浆监视设备，其中，所述电浆供给装置被配置为由被处理物之上部向所述被处理物之一表面发射该电浆；且所述摄像单元被配置为面向所述电浆供给装置之发射喷嘴。如申请专利范围第4项所述之电浆监视设备，其中以一预定间隔隔开设置有复数摄像单元。如申请专利范围第4项所述之电浆监视设备，其中，当要处理被处理物之两表面时，设有复数电浆供给装置，其分别被配置成得以向所述被处理物之上表面及下表面发射该电浆；复数摄像单元分别设置在电浆供给装置之对面。如申请专利范围第6项所述之电浆监视设备，其中所述摄像单元是CCD摄像机。一种电浆之监视方法，包括以下步骤：藉由导因于一电弧的一反应气体的离子化产生电浆，并向一被处理物供给该电浆；使用一摄像单元以获得所述电浆之一发射状态的一图像；分析所述图像之像素资讯，以获得一检测值；比较所述检测值与一正常发射状态之一参考值；及当所述检测值和该参考值不同时，调节供给的电浆的量。如申请专利范围第8项所述之电浆监视方法，其中，所述比较步骤藉由比较该检测值和该参考值，判断所述检测值是否与该参考值相同，所述检测值是否高于所述参考值，或所述检测值是否低于所述参考值。如申请专利范围第8项所述之电浆监视方法，其中，所述调节步骤包括步骤：当该检测值和该参考值相同时，保持供给的反应气体的量；当该检测值大于该参考值时，减少供给的反应气体的量；及当该检测值小于该参考值时，增加供给的反应气体的量。如申请专利范围第8项到第10项中任何一项所述之电浆监视方法，其中，所述调节步骤包括步骤：当该检测值和该参考值相同时，保持电浆的一放电条件；当该检测值大于该参考值时，减少电浆的该放电条件；及当该检测值小于该参考值时，增加电浆的该放电条件。