发明名称 遮罩总成以及镀膜机台
摘要 一种镀膜机台,用以在基材上的镀膜区域上进行镀膜。此镀膜机台包括镀膜腔室、阴极载台、阳极载台以及遮罩总成。镀膜腔室具有腔室开口。阴极载台配置于腔室开口以盛放靶材,而阳极载台配置于镀膜腔室内以承载基材。遮罩总成配置于腔室开口,并位于阴极载台与阳极载台之间。此遮罩总成包括遮罩本体以及挡板。遮罩本体具有开孔。基材位于遮罩本体的第一侧,而开孔暴露出镀膜区域。挡板位于开孔旁,并且立于遮罩本体背对基材的第二侧。
申请公布号 TWI375726 申请公布日期 2012.11.01
申请号 TW098131389 申请日期 2009.09.17
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 刘建志;张钧杰;陈志强
分类号 C23C14/22 主分类号 C23C14/22
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种遮罩总成,用以在一基材上定义一镀膜区域,该遮罩总成包括:一遮罩本体,具有一开孔,该基材位于该遮罩本体的一第一侧,而该开孔暴露出该镀膜区域;以及一挡板,位于该开孔旁,并且立于该遮罩本体背对该基材的一第二侧。如申请专利范围第1项所述之遮罩总成,其中该挡板由该开孔朝向该遮罩本体的外缘倾斜。如申请专利范围第1项所述之遮罩总成,其中该挡板围绕该开孔。如申请专利范围第3项所述之遮罩总成,其中该挡板与该开孔间隔一距离。如申请专利范围第1项所述之遮罩总成,其中该遮罩本体包括:一主框架,具有相对的一第一表面与一第二表面,该第一表面面向该基材,而该挡板配置于该第二表面上;一外墙板,配置于该主框架的外缘,且该外墙板背对该基材并沿着垂直该第二表面的方向延伸;以及一浮置遮罩,配置于该第一表面上,用以提供该开孔。一种镀膜机台,用以在一基材上的一镀膜区域上进行镀膜,该镀膜机台包括:一镀膜腔室,具有一腔室开口;一阴极载台,配置于该腔室开口,用以盛放一靶材;一阳极载台,配置于该镀膜腔室内,用以承载该基材;一遮罩总成,配置于该腔室开口,并位于该阴极载台与该阳极载台之间,该遮罩总成包括:一遮罩本体,具有一开孔,该基材位于该遮罩本体的一第一侧,而该开孔暴露出该镀膜区域;以及一挡板,位于该开孔旁,并且立于该遮罩本体背对该基材的一第二侧。如申请专利范围第6项所述之镀膜机台,其中该挡板由该开孔朝向该遮罩本体的外缘倾斜。如申请专利范围第6项所述之镀膜机台,其中该挡板围绕该开孔。如申请专利范围第8项所述之镀膜机台,其中该挡板与该开孔间隔一距离。如申请专利范围第6项所述之镀膜机台,其中该遮罩本体包括:一主框架,具有相对的一第一表面与一第二表面,该第一表面面向该基材,而该挡板配置于该第二表面上;一外墙板,配置于该主框架的外缘,且该外墙板背对该基材并沿着垂直该第二表面的方向延伸;以及一浮置遮罩,配置于该第一表面上,用以提供该开孔。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号