| 主权项 |
一种高分子真空气相沉积设备之气化装置，包括有：一石英玻璃容器，该石英玻璃容器系供容置高分子材料；一铜柱，该铜柱系设于该石英玻璃容器内；一金属感应片，该金属感应片上系设有一导孔及复数个细孔，而该导孔系供该铜柱活动穿设；以及一电磁感应控制组，该电磁感应控制组系设于该石英玻璃容器外缘；藉此，以供电磁感应控制组只对该金属感应片进行加热动作，有效控制快速聚热及降温，以进行极快速之气化动作与快速停止气化动作者。如申请专利范围第1项所述之高分子真空气相沉积设备之气化装置，其中，该石英玻璃容器系设有一容器本体及一上盖，该上盖系套设于该容器本体上者。如申请专利范围第1项所述之高分子真空气相沉积设备之气化装置，其中，该金属感应片系为不锈钢片者。如申请专利范围第1项所述之高分子真空气相沉积设备之气化装置，其中，该金属感应片系为铁片者。如申请专利范围第1项所述之高分子真空气相沉积设备之气化装置，其中，该电磁感应控制组系设有一电磁电控器及感应线圈，该电磁电控器系通过感应线圈，而作动该金属感应片，以供快速气化高分子材料者。如申请专利范围第2项所述之高分子真空气相沉积设备之气化装置，其中，该石英玻璃容器之上盖系进一步连接一真空管路者。 |
