| 发明名称 |
镀膜件及其制备方法 |
| 摘要 |
本发明提供一种镀膜件，其包括基材及形成于基材表面的合金层，该合金层含有铁、硅、硼及磷，其中铁的原子百分含量为60~90%，硅的原子百分含量为1~20%，硼的原子百分含量为1~10%，磷的原子百分含量为1~10%。本发明还提供一种上述镀膜件的制备方法。本发明镀膜件的制备方法，采用PVD镀膜技术并使用特殊成份的合金靶，在基材的表面制备获得合金层，所述合金层具有较高的硬度且与基材附着牢固，可有效防止基材被磨损，相应地延长了镀膜件的使用寿命。所述制备方法工艺简单、绿色环保且成本低廉。 |
| 申请公布号 |
CN102758183A |
申请公布日期 |
2012.10.31 |
| 申请号 |
CN201110106721.7 |
申请日期 |
2011.04.27 |
| 申请人 |
鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
发明人 |
张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;戴龙文;林顺茂 |
| 分类号 |
C23C14/34(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;B32B15/01(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
一种镀膜件，包括基材及形成于基材表面的合金层，其特征在于：该合金层含有铁、硅、硼及磷，其中铁的原子百分含量为60~90%，硅的原子百分含量为1~20%，硼的原子百分含量为1~10%，磷的原子百分含量为1~10%。 |
| 地址 |
518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 |
