发明名称 |
一种微机电装置及其制造方法 |
摘要 |
一种微机电(MEMS)装置(800)包含衬底(802)、所述衬底(802)上的激活电极(804)、所述激活电极(804)上的反射层(810),和所述激活电极(804)与所述反射层(810)之间的支撑层(808)。所述反射层(810)包含穿过所述反射层(810)的至少一个孔(814)。所述支撑层(808)包含在所述激活电极(804)与所述至少一个孔(814)之间的凹进(812)。在将控制信号施加到所述装置(800)后,所述反射层(810)的至少第一部分(816)经配置以移动到所述凹进(812)中,且所述反射层(810)的至少第二部分(818)经配置以保持静止。所述MEMS装置(800)的反射性主要通过改变从所述第一部分(816)反射的光与从所述第二部分(818)反射的光之间的相位差来调制。 |
申请公布号 |
CN101802677B |
申请公布日期 |
2012.10.24 |
申请号 |
CN200880106871.4 |
申请日期 |
2008.09.08 |
申请人 |
高通MEMS科技公司 |
发明人 |
马克·莫里斯·米尼亚尔 |
分类号 |
G02B26/00(2006.01)I;G02B26/08(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;B81B3/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B26/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
刘国伟 |
主权项 |
一种微机电(MEMS)装置,其包括:衬底;所述衬底上的激活电极;所述激活电极上的反射层,所述反射层包含穿过所述反射层并且从所述反射层的横向边缘向内间隔开的多个孔;以及所述激活电极与所述反射层之间的支撑层,所述支撑层包含在所述多个孔中的每一者下方并且在所述激活电极与所述多个孔之间的凹进,其中所述凹进呈沿所述支撑层在两个维度中为周期性的图案,其中在将控制信号施加到所述装置后,所述反射层的至少第一部分经配置以移动到每个所述凹进中,且所述反射层的至少第二部分经配置以保持静止,所述反射层的所述第一部分包括所述多个孔,其中所述MEMS装置的反射性主要通过改变从所述第一部分反射的光与从所述第二部分反射的光之间的相位差来调制。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |