发明名称 图案形成材料、及图案形成装置以及图案形成方法
摘要 目的在于提供一种可抑制在向基体积层之步骤中皱纹之产生及静电之产生,且使用能形成高精细的图案之图案形成材料、以及具备该图案形成材料之图案形成装置、及使用前述图案形成材料之图案形成方法。;因此,乃提供一种特征为在支撑体上至少依序具有感光层和保护薄膜,存在于该保护薄膜中之面积为2000平方微米以上、且距离薄膜表面的最大高度为1~7微米的鱼眼的个数为50~1000个/平方公尺之图案形成材料,以及提供一种具备该图案形成材料之图案形成装置、及一种使用该图案形成材料并进行曝光之图案形成方法。
申请公布号 TWI375127 申请公布日期 2012.10.21
申请号 TW094130291 申请日期 2005.09.05
申请人 富士软片股份有限公司 发明人 高岛正伸;芹泽慎一郎
分类号 G03F7/11 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种图案形成材料,其系在支撑体上至少依序具有感光层和保护薄膜,存在于该保护薄膜中之面积为2000平方微米以上、且距离薄膜表面的最大高度为1~7微米的鱼眼(fish eye)的个数为50~1000个/平方公尺之图案形成材料;其特征在于:该鱼眼系为在照射透射光于保护薄膜时在杂质周围上所生成的干涉条纹(Newton ring)的最外周所围的区域。如申请专利范围第1项之图案形成材料,其中鱼眼之最大长度为80微米以上。如申请专利范围第1项之图案形成材料,其中保护薄膜系含有从聚丙烯树脂、乙烯-丙烯共聚合树脂、及聚对酞酸乙二酯树脂中所选择的至少1种。如申请专利范围第1项之图案形成材料,其中支撑体为聚对酞酸乙二酯薄膜。如申请专利范围第1项之图案形成材料,其中支撑体至少在未积层感光层的面之表面上系含有导电性物质,该表面之表面电阻值在温度为10℃、相对湿度为35%的环境下系为1×1018Ω/□以下。如申请专利范围第1项之图案形成材料,其中支撑体系为含有导电性物质的聚对酞酸乙二酯薄膜。如申请专利范围第1项之图案形成材料,其中感光层系含有黏合剂、聚合性化合物、光聚合起始剂、及增感剂,而该增感剂为缩环系化合物。如申请专利范围第7项之图案形成材料,其中聚合性化合物系具有从含有环氧丙烷基之化合物、含有环氧乙烷基之化合物、含有胺基甲酸酯基之化合物、及含有芳基之化合物中所选取的至少1种。如申请专利范围第7项之图案形成材料,其中聚合性化合物至少包含:含有环氧丙烷基之化合物、含有胺基甲酸酯基之化合物、及含有芳基之化合物。如申请专利范围第1项之图案形成材料,其中感光层系含有聚合禁止剂。如申请专利范围第1项之图案形成材料,其在将该感光层予以曝光显像的情况下,于前述曝光时所使用、且该感光层之曝光部分的厚度在该显像前后不会改变之光的最小能量系为10 mJ/cm2以下。一种图案形成装置,其特征在于:具备如申请专利范围第1项之图案形成材料;至少具有可以照射光之光照射机构,和将来自该光照射机构之光予以调变、并对前述图案形成材料中的感光层进行曝光之光调变机构。一种图案形成方法,其特征在于:至少包括对于如申请专利范围第1项之图案形成材料中的感光层进行曝光。如申请专利范围第13项之图案形成方法,其中曝光系在藉由光调变机构进行光的调变之后,通过配置有可以校正因前述之光调变机构中图素部的射出面的皱摺所引起之收差的非球面之微透镜的微透镜阵列而进行。如申请专利范围第14项之图案形成方法,其非球面系为复曲面。如申请专利范围第13项之图案形成方法,其系于进行曝光之后,再进行感光层之显像。如申请专利范围第16项之图案形成方法,其系进行显像之后,再进行永久图案之形成。
地址 日本