发明名称 |
非易失性存储元件及其制造方法 |
摘要 |
本发明的非易失性存储元件具有:电阻变化元件(104a),其具有第1电极(103)、第2电极(105)和电阻变化层(104),该电阻变化层(104)介于第1电极(103)和第2电极(105)之间,并且电阻值根据提供到第1电极(103)和第2电极(105)之间的电信号而可逆地变化;以及固定电阻层(108),其具有规定的电阻值,被层叠于电阻变化层(104),电阻变化层(104)具有缺氧型的第1过渡金属氧化物层(106)、和具有比第1过渡金属氧化物层(106)高的含氧率的第2过渡金属氧化物绝缘层(107),规定的电阻值为70Ω以上且1000Ω以下。 |
申请公布号 |
CN102742011A |
申请公布日期 |
2012.10.17 |
申请号 |
CN201180007789.8 |
申请日期 |
2011.12.12 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
米田慎一;三河巧 |
分类号 |
H01L27/105(2006.01)I;G11C13/00(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I;H01L49/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/105(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
徐殿军 |
主权项 |
一种非易失性存储元件,具有:电阻变化元件,具有第1电极、第2电极和电阻变化层,所述电阻变化层介于所述第1电极和所述第2电极之间,并且其电阻值根据提供到所述第1电极和所述第2电极之间的电信号而可逆地变化;以及固定电阻层,具有规定的电阻值,被层叠于所述电阻变化元件,所述电阻变化层具有缺氧型的第1过渡金属氧化物层、和具有比所述第1过渡金属氧化物层高的含氧率的第2过渡金属氧化物绝缘层,所述规定的电阻值为70Ω以上且1000Ω以下。 |
地址 |
日本大阪府 |