发明名称 非易失性存储元件及其制造方法
摘要 本发明的非易失性存储元件具有:电阻变化元件(104a),其具有第1电极(103)、第2电极(105)和电阻变化层(104),该电阻变化层(104)介于第1电极(103)和第2电极(105)之间,并且电阻值根据提供到第1电极(103)和第2电极(105)之间的电信号而可逆地变化;以及固定电阻层(108),其具有规定的电阻值,被层叠于电阻变化层(104),电阻变化层(104)具有缺氧型的第1过渡金属氧化物层(106)、和具有比第1过渡金属氧化物层(106)高的含氧率的第2过渡金属氧化物绝缘层(107),规定的电阻值为70Ω以上且1000Ω以下。
申请公布号 CN102742011A 申请公布日期 2012.10.17
申请号 CN201180007789.8 申请日期 2011.12.12
申请人 松下电器产业株式会社 发明人 米田慎一;三河巧
分类号 H01L27/105(2006.01)I;G11C13/00(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I;H01L49/00(2006.01)I 主分类号 H01L27/105(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 徐殿军
主权项 一种非易失性存储元件,具有:电阻变化元件,具有第1电极、第2电极和电阻变化层,所述电阻变化层介于所述第1电极和所述第2电极之间,并且其电阻值根据提供到所述第1电极和所述第2电极之间的电信号而可逆地变化;以及固定电阻层,具有规定的电阻值,被层叠于所述电阻变化元件,所述电阻变化层具有缺氧型的第1过渡金属氧化物层、和具有比所述第1过渡金属氧化物层高的含氧率的第2过渡金属氧化物绝缘层,所述规定的电阻值为70Ω以上且1000Ω以下。
地址 日本大阪府