一种用于光学邻近校正的区别化层次处理方法

摘要

本发明公开了一种用于光学邻近校正的区别化层次管理方法。包括如下步骤：1)建立光学仿真模型以及数据初始化；2)由光学仿真模型和版图相关信息确定图形相互影响的距离；3)对版图各个区域进行识别，区分相似区域和非相似区域，并做不同的处理；4)对相似区域的单元进行环境识别，找出完全相同的单元；5)对每个独特单元的图形进行光学邻近校正，之后把光学邻近校正的结果放回原来的单元中，得到整个版图的光学邻近校正的结果。本发明有利于提高版图中层次化结构信息的利用率，降低光学邻近校正过程的冗余计算，提高光学邻近校正的运算效率，降低集成电路的生产成本，缩短生产周期。

主权项

一种用于光学邻近校正的区别化层次管理方法，其特征在于它的步骤如下：1)建立光学仿真模型以及数据初始化；2)由光学仿真模型和版图相关信息确定图形相互影响的距离；3)对版图各个区域进行识别，区分相似区域和非相似区域，并做不同的处理；4)对相似区域的单元进行环境识别，找出完全相同的单元；5)对每个独特单元的图形进行光学邻近校正，其中该独特单元是指对相似区域的单元进行环境识别从而找出的完全相同的单元中的一个单元，之后把光学邻近校正的结果放回原来的单元中，得到整个版图的光学邻近校正的结果；所述的建立光学仿真模型以及数据初始化的步骤为：a)根据集成电路制造工厂提供的光刻机的基本参数λ，NA和σ，建立用于光学邻近校正的光学仿真模型，其中：λ是光源的波长，NA是光学系统的数值孔径，σ是照明的相干系数；b)输入以GDSII格式存放的版图，确定相似区域的光学邻近校正单元的长边最大长度L1，非相似区域的光学邻近校正单元的长边最大长度L2，L2取L1的3‑6倍；所述的由光学仿真模型和版图相关信息确定图形相互影响的距离的步骤为：c)图形相互影响距离是一个数值距离，即相互影响光学邻近校正结果的图形之间的最大距离，在使用193nm波长的光源条件下，当版图的特征尺寸大于130nm时取光学仿真模型的内核半径为图形相互影响距离，当版图特征尺寸小于130nm时取光学仿真模型内核半径的5倍为图形相互影响的距离；所述的对版图各个区域进行识别，区分相似区域和非相似区域，并做不同的处理的步骤为：d)寻找内部相似单元的过程采取深度优先算法对版图的层次化结构树进行遍历，对每个节点单元是否为相似区域进行判断，遍历终止条件为满足下列两个条件之一：1.单元满足内部相似的条件；2.单元长边长度小于相似区域光学邻近校正单元长边最大长度L1的5倍；对单元内部是否相似的判断步骤如下：采用深度优先算法遍历单元的所有子单元，如果某个单元原型的实例出现在遍历的最底层，即叶子单元，就对这个单元原型进行标记，遍历结束之后，如果被 标记的单元原型的数量小于单元原型总数的5/1000‑1/100之间某一数值时，则此单元的内部是相似的，即标记为相似区域，否则标记为非相似区域；e)将标记为相似区域的单元的实例从原版图中删除并将几何信息存储起来，然后将顶层单元打平按照参数非相似区域光学邻近校正单元长边的最大长度L2进行切分，即切分为数个L2*L2的正方形单元，最后的剩余部分则切分为长边不大于L2的矩形单元，并将切分的结果单元加入顶层单元作为顶层单元的子单元；f)对标记为相似区域的单元的内部进行处理；g)将经过处理的标记为相似区域的单元的实例按照记录的几何信息放回顶层单元中；所述的对标记为相似区域的单元的内部进行处理的步骤为：(1)采用深度优先算法遍历单元内部的所有单元，对于每一个单元，如果它既包含图形又包含子单元，则将它内部的图形放入一个新的单元原型中，并将这个单元原型的实例加入这个单元，并标记为它的子单元；(2)采用深度优先算法遍历单元内部的所有单元，如果一个单元不是叶子单元且它的长边长度小于相似区域光学邻近校正单元长边最大长度L1，则将这个单元打平，如果一个叶子单元的长度大于L1，则将它切分为数个L1*L1的正方形单元，最后剩余的部分切分为长边不大于L1的矩形单元，并将切分的结果单元加入这个单元作为这个单元的子单元；所述的对相似区域的单元进行环境识别，找出完全相同的单元的步骤为：h)创建一个新的顶层单元，简称顶层单元，并采用深度优先算法遍历旧顶层单元的所有子单元，将所有的叶子单元加入顶层单元中；i)对于每个单元原型，遍历顶层单元找出所有引用这个单元原型的叶子单元，找出它周围的叶子单元，并记录这些单元的几何信息，即为这个叶子单元的环境信息，如果是第一个被找出的引用此单元原型的叶子单元，则创建一个新的单元原型，并将这个叶子单元的原型引用信息变更为这个新的单元原型，如果不是第一个被找出的叶子单元，则将它的环境信息与前面找出的叶子单元的环境信息进行逐一比较，如果和某个单元的环境完全相同，则将它的原型引用信息变更为与这个单元相同，如果没有任何的前面找出的单元与这个单元的环境相同则创建一个新的单元原型并将这个叶子单元的原型引用信息变更为这个新的单元原型；j)经过步骤i)之后，原型引用信息相同的单元即为相同单元；所述的对每个独特单元的图形进行光学邻近校正，之后把光学邻近校正的结果放回原来的单元中，得到整个版图的光学邻近校正的结果的步骤为：k)将单元所含图形，向外扩展一段距离，该距离大小为图形相互影响距离，提取范围内所有图形得到等待光学邻近校正的图形集合；1)对步骤k)得到的图形进行光学邻近校正；m)移除光学邻近校正结果中环境图形，即步骤k)中向外扩展部分的图形；n)将步骤m)得到的结果放入原单元的不同层中，得到整个版图的光学邻近校正结果。