发明名称 磁极组件及具有它的磁控管、溅射室装置和基片处理设备
摘要 一种磁极组件、具有它的磁控管、溅射室装置和基片处理设备。磁极组件包括:间隔地排列的多个磁铁;和分别安装在多个磁铁的第一端以将所述多个磁铁依次连接起来的多个磁极件,其中每个磁极件相对于与其相连的所述磁铁可转动且相邻的所述磁极件彼此相对可转动。根据本发明的磁极组件,由于每个所述磁极件相对于与其相连的磁铁可转动且相邻的所述磁极件彼此相对可转动,因此可以方便地改变形状,从而在将其分别作为内磁极组件和外磁极组件安装在磁轭上以组装磁控管时,可以通过与磁轭的配合能够实现方便地改变磁控管的形状以优化靶材的刻蚀效果,而无需重新设计磁控管。
申请公布号 CN102737928A 申请公布日期 2012.10.17
申请号 CN201110084073.X 申请日期 2011.04.02
申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 发明人 耿波;李杨超;边国栋;杨玉杰;李栋才
分类号 H01J23/087(2006.01)I;H01J25/50(2006.01)I;H01J37/34(2006.01)I 主分类号 H01J23/087(2006.01)I
代理机构 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人 宋合成
主权项 一种磁极组件,其特征在于,包括:多个磁铁,所述多个磁铁间隔地排列;和多个磁极件,所述多个磁极件分别安装在所述多个磁铁的第一端以将所述多个磁铁依次连接起来,其中每个所述磁极件相对于与其相连的所述磁铁可转动且相邻的所述磁极件彼此相对可转动。
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