| 发明名称 | 透明导电膜用蚀刻液组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供对电极材料等中使用的铜和/或铜合金无损伤、能够蚀刻结晶质ITO膜的透明导电膜用蚀刻液组合物。包含含有1～10重量％的氟化合物的水溶液的结晶质透明导电膜用蚀刻液组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN102732254A | 申请公布日期 | 2012.10.17 |
| 申请号 | CN201210102517.2 | 申请日期 | 2012.04.10 |
| 申请人 | 关东化学株式会社 | 发明人 | 山口隆雄;石川典夫 |
| 分类号 | C09K13/08(2006.01)I;C09K13/04(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I | 主分类号 | C09K13/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京高文律师事务所 11359 | 代理人 | 徐江华 |
| 主权项 | 一种结晶质透明导电膜用蚀刻液组合物，包含含有1～10重量％的氟化合物的水溶液。 | ||
| 地址 | 日本国东京都中央区 | ||