| 发明名称 | 像素图案的形成方法、滤色片和显示元件 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种像素图案的形成方法、滤色片和显示元件。本发明在于提供：使用染料或色淀颜料作为着色剂时，为了尽量显现出染料或色淀颜料优异的色度性质的像素图案的形成方法。一种像素图案的形成方法，其特征在于：包括(1)在衬底上形成着色放射线敏感性组合物的涂膜的工序，该组合物包含从由染料和色淀颜料构成的群组中选出的至少一种，以及(2)用放射线照射前述涂膜的至少一部分的工序；前述放射线的分光分布在350nm～450nm的范围内具有多个峰，而且前述放射线不到350nm时的最大强度为350nm～450nm中的最大峰强度的50％以下。 | ||
| 申请公布号 | CN102736408A | 申请公布日期 | 2012.10.17 |
| 申请号 | CN201210094140.0 | 申请日期 | 2012.03.29 |
| 申请人 | JSR株式会社 | 发明人 | 竹村彰浩;大喜多健三 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 一种像素图案的形成方法，其特征在于：包括(1)在衬底上形成着色放射线敏感性组合物的涂膜的工序，该组合物包含从由染料和色淀颜料构成的群组中选出的至少一种，以及(2)用放射线照射前述涂膜的至少一部分的工序；前述放射线的分光分布在350nm～450nm的范围内具有多个峰，而且前述放射线不到350nm时的最大强度为350nm～450nm中的最大峰强度的50％以下。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||