发明名称 导电膜及其制造方法
摘要 提供一种用于以能够大面积化的简便的方法制造透明性、导电性优异的导电膜的制造方法。一种导电膜的制造方法,其包括:在基板(A)的表面上配置模具(B),所述模具(B)具有贯通与基板(A)接触的面和其背面的网格结构的开口部,在配置有模具(B)的基板(A)的表面展开导电性颗粒(P)的分散液(D)并使其干燥,由此在基板(A)与模具(B)的接触点附近形成基于导电性颗粒(P)的网格状结构(C),然后,从基板(A)上取下模具(B),由此在基板(A)的表面上形成基于导电性颗粒(P)的网格状结构(C)的工序。
申请公布号 CN102741945A 申请公布日期 2012.10.17
申请号 CN201180006563.6 申请日期 2011.01.18
申请人 国立大学法人京都大学;三洋化成工业株式会社;三菱丽阳株式会社 发明人 东谷公;都藤靖泰;中山将辉;挂伸二
分类号 H01B13/00(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I 主分类号 H01B13/00(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种导电膜的制造方法,其包括:在基板(A)的表面上配置模具(B),所述模具(B)具有贯通与基板(A)接触的面和其背面的网格结构的开口部,在配置有模具(B)的基板(A)的表面展开导电性颗粒(P)的分散液(D)并使其干燥,由此在基板(A)与模具(B)的接触点附近形成基于导电性颗粒(P)的网格状结构(C),然后,从基板(A)上取下模具(B),由此在基板(A)的表面上形成基于导电性颗粒(P)的网格状结构(C)的工序。
地址 日本京都府