发明名称 一种散热系统、散热装置及其散热鳍片基座
摘要 本创作系提供了一种创新的散热系统、其散热装置及其散热鳍片基座。本创作得被应用于如电脑或伺服器等电子元件的内部散热。相较于知散热系统、其散热装置及其散热鳍片基座于应用时将产生严重的紊流,本创作藉由调整散热鳍片基座的形状来对前述的问题进行改善。简而言之,本创作系应用了一具有工字形散热片基座的散热装置来提高空气的流动速率进而提高了其散热效能,解决了知散热装置因紊流而流速受限以致其热能无法有效被移除的问题。
申请公布号 TWM439332 申请公布日期 2012.10.11
申请号 TW101210147 申请日期 2012.05.28
申请人 国际星力达股份有限公司 发明人 苏绍宇
分类号 H05K7/20 主分类号 H05K7/20
代理机构 代理人 林育雅 新北市永和区保生路1号19楼之4
主权项 一种散热鳍片基座,设置于一环境并用于承载一散热鳍片,该环境之一空气系自一甲端往一乙端流动,其系包含有:一导热部,具有一上表面、一下表面、一甲侧壁及一乙侧壁,该甲侧壁系面向该甲端,该乙侧壁系面向该乙端,该下表面系相对于一热源;以及复数个甲固定部,该复数个甲固定部系分别地自该甲侧壁往该甲端方向水平突出而成。如申请专利范围第1项所述的散热鳍片基座,其中该复数个甲固定部系分别地具有一穿孔,以供一固定元件穿设。如申请专利范围第1项所述的散热鳍片基座,其进一步包含有复数个乙固定部,该复数个乙固定部系分别地自该乙侧壁并往该乙端方向水平突出而成。如申请专利范围第1项所述的散热鳍片基座,其中该散热鳍片基座系呈一工字状。如申请专利范围第1项所述的散热鳍片基座,其中该散热鳍片基座之该导热部于该甲端往该乙端方向之长度系小于十公分。一种散热鳍片基座,设置于一环境并用于承载一散热鳍片,该环境之一空气系自一甲端往一乙端流动,其系包含有:一主体;一甲凹陷,自该主体相对于该甲端之侧壁往该乙端之侧壁方向水平凹陷而成;以及一乙凹陷,自该主体相对于该乙端之侧壁往该甲端之侧壁方向水平凹陷而成。一种散热装置,其包含有:一种如申请专利范围第1项至第6项之任一者所述之该散热鳍片基座;以及一散热鳍片组,包含有复数片散热鳍片,该复数片散热鳍片系相互水平地自该散热鳍片基座之该导热部之该上表面处往外延伸而成并形成有复数条相互平行的流道,该复数条流道之延伸方向系与该空气之流动方向大致相同。一种散热系统,其包含有:一载体;一种与申请专利范围第7项所述的散热装置相同的甲散热装置,设置于该载体上;以及一乙散热装置,设置于该甲散热装置相对于该乙端之方向。如申请专利范围第8项所述的散热系统,其中该甲散热装置及该乙散热装置之间具有一最小距离,该最小距离小于十公分。如申请专利范围第8项所述的散热系统,其中该甲散热装置及该乙散热装置之间具有一最小距离,该最小距离小于五公分。
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