| 主权项 |
一种光学元件用模具装置，其特征在于：系具备：设于固定侧或可动侧，边调整其和相对向的模具之温度边进行合模，且在其间的成形空间注入成形材料而制造出光学元件之第1模具、前述相对向的模具之第2模具、用来保持前述第1模具，且在第1模具侧的表面之一部分形成有定位孔之保持构件、以及其形状具有内面和外面，且以外面嵌合于前述定位孔之定位构件；在前述第1模具形成有：朝向前述保持构件突出且能嵌合于前述定位构件的内面之定位突起；前述定位构件，系使用线膨胀系数比前述保持构件的材质及前述定位突起的材质更小的材质来形成。如申请专利范围第1项记载之光学元件用模具装置，其中，具有用来控制前述保持构件的温度之温度调整手段。如申请专利范围第1或2项记载之光学元件用模具装置，其中，构成前述定位构件的材质之线膨胀系数为5×10-6/K以下。如申请专利范围第1项记载之光学元件用模具装置，其中，前述第1模具系固定侧模具，第2模具系可动侧模具。如申请专利范围第3项记载之光学元件用模具装置，其中，前述第1模具系固定侧模具，第2模具系可动侧模具。如申请专利范围第1项记载之光学元件用模具装置，其中，前述第1模具系可动侧模具，第2模具系固定侧模具。如申请专利范围第3项记载之光学元件用模具装置，其中，前述第1模具系可动侧模具，第2模具系固定侧模具。如申请专利范围第1项记载之光学元件用模具装置，系具备：用来保持前述第2模具，且在第2模具侧的表面之一部分形成有第2定位孔之第2保持构件、以及其形状具有内面和外面，且以外面嵌合于前述第2定位孔之第2定位构件；在前述第2模具形成有：朝向前述第2保持构件突出且能嵌合于前述第2定位构件的内面之第2定位突起；前述第2定位构件，系使用线膨胀系数比前述第2保持构件的材质及前述第2定位突起的材质更小的材质来形成。如申请专利范围第3项记载之光学元件用模具装置，系具备：用来保持前述第2模具，且在第2模具侧的表面之一部分形成有第2定位孔之第2保持构件、以及其形状具有内面和外面，且以外面嵌合于前述第2定位孔之第2定位构件；在前述第2模具形成有：朝向前述第2保持构件突出且能嵌合于前述第2定位构件的内面之第2定位突起；前述第2定位构件，系使用线膨胀系数比前述第2保持构件的材质及前述第2定位突起的材质更小的材质来形成。一种光学元件用模具装置之设置方法，系边调整固定侧模具和可动侧模具的温度边进行合模，并在其间的成形空间注入成形材料以制造出光学元件之光学元件用模具装置之设置方法；其特征在于：前述固定侧模具及前述可动侧模具中至少一方的模具，系形成有朝向与合模面的相反侧突出之定位突起；并使用用来保持前述至少一方的模具且在模具侧的表面的一部分形成有定位孔之保持构件；又使用以线膨胀系数比前述保持构件的材质及前述定位突起的材质更小之材质所形成之定位构件，该定位构件的形状具有外面和内面，以其外面嵌合于前述定位孔，并在内面嵌合前述定位突起；该设置方法具有以下步骤：第1步骤，将前述保持构件调整成符合以下关系的第1温度：t1+40@sIMGCHAR!d10008.TIF@eIMG!第1温度@sIMGCHAR!d10009.TIF@eIMG!t1+60(℃)(其中，t1系在该模具装置进行光学构件成形时之前述保持构件的温度)；第2步骤，在前述第1步骤所调整之温度条件下进行前述保持构件和前述定位构件之安装；第3步骤，将前述保持构件的温度调整成t1±5(℃)的范围内，并将前述至少一方的模具调整成符合以下关系之第2温度：第2温度@sIMGCHAR!d10010.TIF@eIMG!t1-10(℃)；第4步骤，在前述第3步骤所调整之温度条件下进行前述定位构件和前述至少一方的模具的定位突起之安装；第5步骤，将前述至少一方的模具温度调整成t2±5(℃)的范围内(其中，t2系在该模具装置进行光学构件成形时之至少一方的模具的温度)。一种光学元件用模具装置之设置方法，系边调整固定侧模具和可动侧模具的温度边进行合模，并在其间的成形空间注入成形材料以制造出光学元件之光学元件用模具装置之设置方法；其特征在于：前述固定侧模具及前述可动侧模具中至少一方的模具，系形成有朝向与合模面的相反侧突出之定位突起；并使用用来保持前述至少一方的模具且在模具侧的表面的一部分形成有定位孔之保持构件；又使用以线膨胀系数比前述保持构件的材质及前述定位突起的材质更小之材质所形成之定位构件，该定位构件的形状具有外面和内面，以其外面嵌合于前述定位孔，并在内面嵌合前述定位突起；从前述保持构件和前述定位构件安装在一起，且前述定位构件和前述至少一方的模具之定位突起安装在一起的状态开始，具有以下步骤：第1步骤，将前述保持构件的温度调整成t1±5(℃)的范围内，并将前述至少一方的模具调整成符合以下关系之第2温度：第2温度@sIMGCHAR!d10011.TIF@eIMG!t1-10(℃)；第2步骤，在前述第1步骤所调整之温度条件下进行前述定位构件和前述至少一方的模具的定位突起之脱离；第3步骤，将前述保持构件调整成符合以下关系的第1温度：t1+40@sIMGCHAR!d10012.TIF@eIMG!第1温度@sIMGCHAR!d10013.TIF@eIMG!t1+60(℃)；第4步骤，在前述第3步骤所调整之温度条件下进行前述保持构件和前述定位构件之脱离。如申请专利范围第10或11项记载之光学元件用模具装置之设置方法，其中，10(℃)@sIMGCHAR!d10014.TIF@eIMG!第2温度。如申请专利范围第12项记载之光学元件用模具装置之设置方法，其中，前述保持构件系使用：在前述第1温度下，前述定位孔的直径比前述定位构件的外面直径大20~60μm的范围内者；前述至少一方的模具系使用：在常温下前述定位突起的直径，比在前述第2温度下前述定位构件的内面直径小15~90μm的范围内者。 |
