发明名称 电浆处理系统及其方法
摘要 本发明系有关于一种电浆处理系统及其方法,其包含一微波电浆反应装置、一气体输入装置与一尾气中和装置,气体输入装置输入一反应气体至该微波电浆反应装置,该微波电浆反应装置利用一微波同时激发、解离、离子化该些反应气体而形成一电浆,该电浆反应后生成一尾气,尾气中和装置接收该尾气并利用至少一中和反应物中和该尾气。如此,本发明藉由微波电浆反应装置维持适当之电浆操作环境,以消除与分解全氟化物,且更利用至少一中和反应物来中和掉电浆分解全氟化物后所产生之尾气,以避免尾气污染环境。
申请公布号 TWI374050 申请公布日期 2012.10.11
申请号 TW098145717 申请日期 2009.12.29
申请人 国立云林科技大学 发明人 易逸波
分类号 B01D53/32 主分类号 B01D53/32
代理机构 代理人 蔡秀玫 新北市土城区金城路2段211号4楼A1室
主权项 一种电浆处理系统,其包含:一微波电浆反应装置;一气体输入装置,其连接该微波电浆反应装置,输入一反应气体至该微波电浆反应装置,该微波电浆反应装置利用一微波激发、解离及离子化该反应气体而形成一电浆态,该反应气体于电浆反应后生成一尾气;以及一尾气中和装置,其接收该尾气,并利用至少一中和反应物中和该尾气。如申请专利范围第1项所述之电浆处理系统,其中该气体输入装置包含:复数气体储存单元,其储存该反应气体与至少一辅助气体;复数过滤器,其连接该些气体储存单元,过滤该些反应气体及辅助气体之复数悬浮粒子;复数质流控制器,其连接该些过滤器,控制该些反应气体及辅助气体之流量;复数气动阀,其连接该些质流控制器,用以控制是否让该反应气体或特定辅助气体进入该电浆处理系统;复数逆止阀,其连接该些气动阀,避免逆流至其他气体储存单元而产生危害;以及一气体混合器,其连接于该些逆止阀与该微波电浆反应装置,该气体混合器经该些过滤器、该些控制阀、该些质流控制器与该些逆止阀接收该些反应气体,并混合该反应气体与该至少一辅助气体,且输送至该微波电浆反应装置。如申请专利范围第2项所述之电浆处理系统,其中该辅助气体为氮气、氢气、氧气或外界空气。如申请专利范围第2项所述之电浆处理系统,其中该些质流控制器连接至一控制模组,该控制模组控制该些质流控制器。如申请专利范围第4项所述之电浆处理系统,其中该控制模组包含一可程式化控制器(PLC)及一触控面板。如申请专利范围第2项所述之电浆处理系统,其中该些质流控制器连接至一电脑装置,该电脑装置控制该些质流控制器。如申请专利范围第6项所述之电浆处理系统,其中该电脑装置为一桌上型电脑或一笔记型电脑。如申请专利范围第1项所述之电浆处理系统,更包含:一气压帮浦,其连接该微波电浆反应装置,抽取该尾气至该尾气中和装置,并产生一负压至该微波电浆反应装置;以及一压力量测单元,其连接该微波电浆反应装置,量测该微波电浆反应装置内部之一压力,该气体输入装置依据该压力量测值调整进气流量,以控制该反应腔室之该压力。如申请专利范围第8项所述之电浆处理系统,其中该气压帮浦为一乾式抽气泵或一湿式抽气泵。如申请专利范围第1项所述之电浆处理系统,更包含:一取样帮浦,其连接该微波电浆反应装置,输送该电浆所产生之该尾气送至该取样分析单元;以及一取样分析单元,其连接该取样帮浦,取样该电浆所产生之该尾气并分析。一侦测仪表,其连接该反应腔室,用于检测该电浆之特性。如申请专利范围第10项所述之电浆处理系统,其中该取样帮浦为一乾式抽气泵。如申请专利范围第10项所述之电浆处理系统,其中该取样分析单元为一气相层析仪(GC)。如申请专利范围第10项所述之电浆处理系统,其中该取样分析单元为一傅立叶转换红外光谱仪(FTIR)。如申请专利范围第10项所述之电浆处理系统,其中该侦测仪表为一光放射光谱仪(OES)。如申请专利范围第10项所述之电浆处理系统,其中该侦测仪表为一热电偶或一压力计。如申请专利范围第1项所述之电浆处理系统,其中该反应气体为包含全氟化物之气体、挥发性有机物或其他半导体残余气体。一种电浆处理方法,其包含:产生一微波至一电浆反应装置内,以生成一电浆于该电浆反应装置内;将一反应气体输入该电浆反应装置,使该反应气体转变为一电浆态;生成一尾气;以及利用至少一中和反应物中和该尾气。如申请专利范围第17项所述之电浆处理方法,其中于输入一反应气体之步骤中更包含:取出该反应气体与至少一辅助气体;过滤该反应气体与该辅助气体;混合该反应气体与该辅助气体;以及输入混有该辅助气体之该反应气体。如申请专利范围第18项所述之电浆处理方法,其中该辅助气体为氮气、氢气、氧气或外界空气。如申请专利范围第17项所述之电浆处理方法,其中于生成一尾气之步骤后,更包含:收集该尾气。如申请专利范围第17项所述之电浆处理方法,其中于利用至少一中和反应物中和该尾气之步骤前后,更包含:取样该尾气;以及分析该尾气。如申请专利范围第17项所述之电浆处理方法,其中于生成一电浆之步骤前,更包含加入一用于电浆反应之添加物的步骤。如申请专利范围第21项所述之电浆处理方法,其中该添加物可为一催化剂或一需进行电浆表面处理之待处理元件。如申请专利范围第17项所述之电浆处理方法,其中该反应气体包含全氟化物之气体、挥发性有机物或其他半导体残余气体。
地址 云林县斗六市大学路3段123号