发明名称 用于消除太阳能单晶黑芯硅片的拉制工艺
摘要 本发明的用于消除太阳能单晶黑芯硅片的拉制工艺,采用单晶炉热场系统进行拉制,具有如下步骤:①在单晶炉热场系统中坩埚中投入晶料;②预设单晶炉热场系统的工况参数,加热使单晶炉热场系统中坩埚内晶料融化保持熔融状态;③将籽晶点到熔融状态的液面上,籽晶反向旋转开始引晶;④当引晶长度达到120-150mm时,以0.35-0.40毫米/分的拉速放溜肩;⑤当放肩至171mm时,同时坩埚转速8转/分钟,晶棒反向转速12转/分钟进行手动转肩;⑥转肩成功后再进行手动等径至150mm。本发明提高单晶拉制水平,拉出收尾到底的硅棒,杜绝有残留位错滑移的现象,能解决黑芯片问题。
申请公布号 CN102719882A 申请公布日期 2012.10.10
申请号 CN201210169650.X 申请日期 2012.05.28
申请人 常州华盛恒能光电有限公司 发明人 王煜辉
分类号 C30B15/20(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I 主分类号 C30B15/20(2006.01)I
代理机构 北京市惠诚律师事务所 11353 代理人 王美华
主权项 一种用于消除太阳能单晶黑芯硅片的拉制工艺,采用单晶炉热场系统进行拉制,其特征是具有如下步骤:①在单晶炉热场系统中坩埚中投入晶料,然后装入单晶炉热场系统;②预设单晶炉热场系统的工况参数,抽真空,保持炉压:1300Pa‑1500Pa、充入惰性气体,手动或自动控制炉内红外测温仪示数:1230sp‑1280sp,加热使单晶炉热场系统中坩埚内晶料融化保持熔融状态;③将籽晶点到步骤②中的熔融状态的液面上,籽晶与坩埚相反向旋转开始引晶,引晶速度为1~8mm/min;④当步骤③中引晶长度达到120‑150mm时,以0.35‑0.40毫米/分的拉速放溜肩;⑤当放肩直径达到171mm后,同时坩埚转速8转/分钟,晶棒反向转速12转/分钟进行手动转肩;⑥转肩成功后再进行手动等径至100~150mm,同时需对好依尔根光圈,再采用各项自动控制系统完成收尾操作。
地址 213200 江苏省常州市金坛市华城路316号常州华盛恒能光电有限公司