| 发明名称 | 能移除的顶部敷层 | ||
| 摘要 | 一种能用于图像形成装置的中间转印构件上的主敷层体的能移除的顶部敷层，包括：连续软层；设置在所述连续软层的上表面上的释放层；能移除地设置在所述释放层上的能移除的顶衬，所述能移除的顶衬具有支撑状态和暴露状态，在所述支撑状态下，所述能移除的顶衬被配置为支撑所述释放层，在所述暴露状态下，所述能移除的顶衬被配置为暴露所述释放层；设置在所述连续软层的下表面上的粘结层，所述粘结层被配置为至少粘结到所述连续软层的所述下表面；以及被能移除地设置在所述粘结层上的能移除的底衬。 | ||
| 申请公布号 | CN102725147A | 申请公布日期 | 2012.10.10 |
| 申请号 | CN201080062477.2 | 申请日期 | 2010.02.23 |
| 申请人 | 惠普发展公司，有限责任合伙企业 | 发明人 | 耶尔·科瓦尔-布劳;约西·阿尔伯特 |
| 分类号 | B41N10/02(2006.01)I;B41N10/00(2006.01)I | 主分类号 | B41N10/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人 | 齐葵;罗正云 |
| 主权项 | 一种能移除的顶部敷层，能用于图像形成装置的中间转印构件上的主敷层体，所述能移除的顶部敷层包括：连续软层；设置在所述连续软层的上表面上的释放层；能移除地设置在所述释放层上的能移除的顶衬，所述能移除的顶衬具有支撑状态和暴露状态，在所述支撑状态下，所述能移除的顶衬被配置为支撑所述释放层，在所述暴露状态下，所述能移除的顶衬被配置为暴露所述释放层；设置在所述连续软层的下表面上的粘结层，所述粘结层被配置为至少粘结到所述连续软层的所述下表面；以及能移除地设置在所述粘结层上的能移除的底衬，所述能移除的底衬具有保护状态和露出状态，在所述保护状态下，所述能移除的底衬被配置为保护所述连续软层，在所述露出状态下，所述能移除的底衬被配置为露出所述粘结层。 | ||
| 地址 | 美国德克萨斯州 | ||