发明名称 |
内连线结构 |
摘要 |
本发明提供一种内连线结构与其形成方法,该形成方法包括以下步骤:提供一介电层;形成一金属线于该介电层中;以及形成一复合蚀刻停止层,其中形成该复合蚀刻停止层包括:形成一底部蚀刻停止层于该金属线与该介电层之上;以及形成一顶部蚀刻停止层于该底部蚀刻停止层之上,其中该底部蚀刻停止层与该顶部蚀刻停止层具有不同组成,且两者的步骤于原处进行。本发明可使工艺成本减少约30%。且循环时间可以减少。 |
申请公布号 |
CN101859727B |
申请公布日期 |
2012.10.10 |
申请号 |
CN201010143203.8 |
申请日期 |
2010.03.24 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
廖茂成;杨怀德;孙钟仁;梁晋魁;廖廷修 |
分类号 |
H01L21/768(2006.01)I;H01L23/532(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/768(2006.01)I |
代理机构 |
北京德恒律师事务所 11306 |
代理人 |
陆鑫;高雪琴 |
主权项 |
一种内连线结构的形成方法,包括以下步骤:提供一介电层;形成一金属线于该介电层中;以及形成一复合蚀刻停止层,其中形成该复合蚀刻停止层包括:形成一底部蚀刻停止层于该金属线与该介电层之上;以及形成一顶部蚀刻停止层于该底部蚀刻停止层之上,其中该底部蚀刻停止层与该顶部蚀刻停止层具有不同组成,且两者的形成步骤于原处进行;该方法还包括:形成一低介电常数介电层于该复合蚀刻停止层之上;以及形成一额外金属线与一导孔于该低介电常数介电层中,其中该额外金属线与该导孔电性连接该金属线;形成导孔开口(46)与沟槽开口(48);蚀刻复合蚀刻停止层暴露的部分,接着,形成扩散阻挡层(50)。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |