发明名称 晶圆处理装置
摘要 本实用新型公开了一种晶圆处理装置,其特征在于,包括槽体,所述槽体设置有容腔;所述容腔内设置有支架。本实用新型中的晶圆处理装置,结构简单,使用方便。利用抽真空去除晶圆盲孔内的气泡,去除率高。去除气泡后,利用容器内真空度低可自动将润湿液吸入容腔内,无需泵送装置输送润湿液,操作简便。本实用新型中使用的晶圆夹具,结构简单,装夹及拆卸晶圆时间短,工序少,节省时间。基板设置有第一通孔,可对晶圆正面及背面进行处理,基板不影响对晶圆背面的处理。利用第三定位柱与第一定位槽、第二定位槽配合,晶圆夹具可稳固地设置在支架上,可降低损坏晶圆的风险。
申请公布号 CN202487545U 申请公布日期 2012.10.10
申请号 CN201120573868.2 申请日期 2011.12.31
申请人 上海新阳半导体材料股份有限公司 发明人 王振荣;刘红兵;陈概礼
分类号 H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 上海脱颖律师事务所 31259 代理人 李强
主权项 晶圆处理装置,其特征在于,包括槽体,所述槽体设置有容腔;所述容腔内设置有支架。
地址 201616 上海市松江区文合路1268号