| 发明名称 | 抑制RNA干扰脱靶效应的特异性修饰 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种化学修饰的双链小干扰RNA(siRNA)分子及其制备和应用方法。通过在siRNA分子正义链从5’端起第14位点或/和第16位点引入化学修饰的核苷酸，从而降低修饰的siRNA分子正义链引起的脱靶效应，增强修饰的siRNA分子对靶基因表达沉默的特异性。 | ||
| 申请公布号 | CN102719434A | 申请公布日期 | 2012.10.10 |
| 申请号 | CN201110078975.2 | 申请日期 | 2011.03.31 |
| 申请人 | 百奥迈科生物技术有限公司 | 发明人 | 杜权;梁子才 |
| 分类号 | C12N15/113(2010.01)I;C12N15/10(2006.01)I;A61K48/00(2006.01)I | 主分类号 | C12N15/113(2010.01)I |
| 代理机构 | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人 | 翁若莹 |
| 主权项 | 分离的化学修饰的双链小干扰RNA(siRNA)分子，包含正义链(过客链)和反义链(引导链)，其特征在于所述修饰的siRNA分子的正义链自5’端起第14位点的核苷酸为化学修饰的核苷酸。 | ||
| 地址 | 226016 江苏省南通市经济技术开发区常兴路76号 | ||