| 发明名称 | 用于抛光大体积硅的组合物及方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了包含以下的抛光组合物：(a)二氧化硅、(b)一种或多种提高硅移除速率的化合物、(c)一种或多种四烷基铵盐、和(d)水，其中，该抛光组合物的pH值为7至11。本发明进一步提供了用该抛光组合物抛光基板的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102725373A | 申请公布日期 | 2012.10.10 |
| 申请号 | CN201080041294.2 | 申请日期 | 2010.09.13 |
| 申请人 | 嘉柏微电子材料股份公司 | 发明人 | B.雷斯;J.克拉克;L.琼斯;J.吉利兰;M.怀特 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 化学机械抛光组合物，其基本上由以下组成：(a)0.5重量％至20重量％的二氧化硅，(b)0.02重量％至5重量％的一种或多种有机羧酸，(c)0.05重量％至2重量％的一种或多种氨基膦酸，(d)0.1重量％至5重量％的一种或多种四烷基铵盐，(e)任选的一种或多种碳酸氢盐，(f)任选的氢氧化钾，及(g)水，其中该抛光组合物的pH值为7至11。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||