磁控溅射靶及采用该磁控溅射靶的磁控溅射装置

摘要

一种磁控溅射装置包括屏蔽罩、基板承载座以及磁控溅射靶，屏蔽罩形成有一第一腔体，基板承载座、基板以及磁控溅射靶位于第一腔体内。基板承载座与磁控溅射靶正对设置，基板安装于基板承载座上，磁控溅射靶枢接在所述屏蔽罩内壁上。磁控溅射靶包括靶座、至少一个靶材、多个磁芯以及磁芯平移机构，靶材固定在所述靶座上，多个磁芯固定在磁芯平移机构上。每两个相邻磁芯的磁性相反。磁芯平移机构包括支撑板、多个辊轴以及传动条，支撑板边缘固定在所述靶座上且与所述靶材平行，多个辊轴设置在该支撑板上并能够相对该支撑板旋转，传动条环绕该多个辊轴以及支撑板设置，磁芯平移机构能够带动多个磁芯相对靶材平移。本发明还提供一种磁控溅射靶。

主权项

一种磁控溅射靶，其包括靶座、两个不同材质的靶材、多个磁芯以及磁芯平移机构，所述靶座包括两个相对设置的侧壁以及两个相对设置的端面，所述靶座的至少一端面上固定有一枢接轴，所述枢接轴与一旋转电机连接，该旋转电机能够带动该靶座旋转，所述靶材分别固定在所述靶座的所述侧壁上，所述多个磁芯固定在所述磁芯平移机构上，所述每两个相邻磁芯的磁性相反，所述磁芯平移机构位于所述两个靶材之间，所述磁芯平移机构包括支撑板、多个辊轴以及传动条，支撑板边缘固定在所述靶座上且与所述靶材平行，多个辊轴设置在该支撑板上并能够相对该支撑板旋转，传动条环绕该多个辊轴以及支撑板设置，所述磁芯平移机构能够带动所述多个磁芯沿平行于所述靶材的方向相对所述靶材平移。