| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Oberflächenreinigung bewegter Materialbahnen (10), aufweisend zumindest eine Reinigungskammer (11), die eine Eintrittsöffnung (12) aufweist, durch die die Materialbahn (10) in die Reinigungskammer (11) einläuft und wobei die Reinigungskammer (11) eine Austrittsöffnung (13) aufweist, durch die die Materialbahn (10) aus der Reinigungskammer (11) herausläuft, und wobei eine Eindüseinheit (14) vorgesehen ist, durch die ein Eindüsmedium in Richtung zur Oberfläche der Materialbahn (10) in die Reinigungskammer (11) eingedüst wird und wobei die Reinigungskammer (11) eine Absaugeinheit (15) aufweist, durch die wenigstens das Eindüsmedium aus der Reinigungskammer (11) absaugbar ist.
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