发明名称 一种遮挡杂散X光和直通X光的装置
摘要 本实用新型公开了一种用于遮挡杂散X光和直通X光的装置,其包括:一第一钽片光阑和一沿着X光射线的传输方向设于所述第一钽片光阑下游的一第二钽片光阑,所述第一钽片光阑上设有一第一光阑孔,所述第二钽片光阑上设有一第二光阑孔,所述第一光阑孔与第二光阑孔对应设置,且第一光阑孔的直径小于第二光阑孔的直径;一铅块,其沿X光射线的传输方向设置于所述第二钽片光阑的下游。在本实用新型所述的装置中,钽片光阑用于遮挡杂散X光,并让主光束从光阑孔中穿过,照到样品上,从而消除了杂散X光对微区分析精度的影响,提高了实验的精确性与信噪比。铅块用于遮挡直通X光,从而保护探测器,延长了探测器的使用寿命。
申请公布号 CN202471626U 申请公布日期 2012.10.03
申请号 CN201220058907.X 申请日期 2012.02.22
申请人 中国科学院上海应用物理研究所 发明人 杨科;洪执华;闫帅;李爱国;余笑寒
分类号 G01N23/207(2006.01)I;G01N23/00(2006.01)I 主分类号 G01N23/207(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人 邓琪
主权项 一种用于遮挡杂散X光和直通X光的装置,其特征在于,包括:一第一钽片光阑和一沿着X光射线的传输方向设于所述第一钽片光阑下游的一第二钽片光阑,所述第一钽片光阑上设有一第一光阑孔,所述第二钽片光阑上设有一第二光阑孔,所述第一光阑孔与第二光阑孔对应设置,且第一光阑孔的直径小于第二光阑孔的直径;一铅块,其沿X光射线的传输方向设置于所述第二钽片光阑的下游。
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