| 发明名称 | 一种抗蚀图形改进材料 | ||
| 摘要 | 本发明提出在形成精小图形时减小边缘粗糙度的改进。该目的的取得在构图刻蚀膜之后，在刻蚀膜上形成涂覆膜，以便将刻蚀膜材料和涂覆膜材料在交界面上混合来减小边缘粗糙度。提供一种抗蚀图形改进材料，包括：(a)一种水溶性或者碱溶性的成分，包含：(i)一种树脂，和(ii)一种交联剂。根据本发明，提供一种制备图形的方法，包括：形成抗蚀图形；和在抗蚀图的表面上涂覆根据本发明的抗蚀图形改进材料，其中，抗蚀图形改进材料与抗蚀图形在它们之间的界面上混合。 | ||
| 申请公布号 | CN1442752B | 申请公布日期 | 2012.10.03 |
| 申请号 | CN03101768.1 | 申请日期 | 2003.01.22 |
| 申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 野崎耕司;小澤美和 |
| 分类号 | G03F7/038(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/038(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 一种抗蚀图形改进材料，包括：(a)一种水溶性或者碱溶性的成分，包含：(i)一种树脂，和(ii)一种交联剂或者非离子表面活性剂，和(b)一种水溶性芳香族化合物；其中水溶性芳香族化合物选自包含以下物质的组中：间苯二酚，间苯二酚【4】芳烃，连苯三酚，五倍子酸，以及它们的衍生物；萘二醇，萘三醇，以及它们的衍生物；和茜素黄A。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||