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发明名称 MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE
摘要 <p>Microlithography projection objectives for imaging into an image plane a pattern arranged in an object plane are described with respect to suppressing false light in such projection objectives.</p>
申请公布号 EP1886190(B1) 申请公布日期 2012.10.03
申请号 EP20060753801 申请日期 2006.05.23
申请人 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 KALLER, JULIAN;DODOC, AURELIAN;FELDMANN, HEIKO;KAMENOV, VLADIMIR;EPPLE, ALEXANDER;GRUNER, TORALF;KRAEHMER, DANIEL;PERRIN, JEAN-CLAUDE;CONRADI, OLAF;OKON, THOMAS
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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