发明名称 偏光板、其制造方法、光学膜及图像显示装置
摘要 本发明提供一种可抑制产生裂点之偏光板用黏着剂。本发明之偏光板系介隔黏着剂层于偏光元件之至少一面上设置有透明保护膜之偏光板,上述黏着剂层系含有聚乙烯醇系树脂、交联剂及平均粒径为1~100 nm之金属化合物胶体之树脂溶液,且金属化合物胶体由相对于聚乙烯醇系树脂100重量份以200重量份以下之比例调配之偏光板用黏着剂形成,至少一面之透明保护膜系具有正面相位差为40 nm以上及/或厚度方向相位差为80 nm以上之相位差之相位差板。
申请公布号 TWI373640 申请公布日期 2012.10.01
申请号 TW096132943 申请日期 2007.09.04
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 加藤惠美;中田美惠;小林贯人;水岛洋明;杉野洋一郎;池田哲朗
分类号 G02B5/30 主分类号 G02B5/30
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种偏光板,其系介隔黏着剂层于偏光元件之至少一面上设置有透明保护膜之偏光板,其特征在于:上述黏着剂层系由含有聚乙烯醇系树脂、交联剂及平均粒径为1~100 nm之金属化合物胶体之树脂溶液,且金属化合物胶体以相对于聚乙烯醇系树脂100重量份为200重量份以下之比例调配之偏光板用黏着剂形成,至少一面之透明保护膜系具有正面相位差为40 nm以上及/或厚度方向相位差为80 nm以上之相位差之相位差板,且金属化合物胶体为氧化铝胶体。如请求项1之偏光板,其中于偏光元件之两面设置有透明保护膜,一面之透明保护膜系具有正面相位差为40 nm以上及/或厚度方向相位差为80 nm以上之相位差之相位差板,另一面之透明保护膜系正面相位差未达40 nm且厚度方向相位差未达80 nm之相位差板。如请求项1之偏光板,其中金属化合物胶体具有正电荷。如请求项1之偏光板,其中聚乙烯醇系树脂系含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系树脂。如请求项1之偏光板,其中交联剂含有具有羟甲基之化合物。如请求项1之偏光板,其中交联剂之调配量系相对于聚乙烯醇系树脂100重量份为10~60重量份。如请求项1之偏光板,其中黏着剂层之厚度为10~300 nm,且黏着剂层之厚度大于偏光板用黏着剂中所含之金属化合物胶体之平均粒径。一种偏光板之制造方法,其特征在于:其系制造介隔黏着剂层于偏光元件之至少一面上设置有透明保护膜之如请求项1~7中任一项之偏光板之方法,包括:于偏光元件之形成上述黏着剂层之面及/或透明保护膜之形成上述黏着剂层之面上涂布上述偏光板用黏着剂之步骤;贴合偏光元件与透明保护膜之步骤。一种光学膜,其特征在于其至少积层有1片如请求项1之偏光板。一种图像显示装置,其特征在于其使用如请求项1~7中任一项之偏光板或如请求项9之光学膜。
地址 日本