晶圆热处理机

摘要

一热处理机包含一位于制程槽(或缸)内部可配置在制程腔体周围的冷却套管。一加热器可大致上移入制程腔体槽与冷却套管之间的位置处。一具有多个工件容纳位置的托架被提供来放置一批工件或晶圆。制程腔体槽可大致上移动至一围绕着托架四周之位置，使托架中的晶圆可在一受控制的环境下进行制程。一冷却围板可提供来在热处理前后吸收从加热器发出的热能。此热处理机采一致密且热屏闭之设计，并可用于含有其他类型处理机之自动化制程系统中。

主权项

一种热处理机，包含：一制程腔体槽；一冷却套管大致上围绕着制程腔体槽；一加热器可从一第一加热器位置移至一第二加热器位置，于该处该加热器大致上位于该制程腔体槽与该冷却套管之间，且该加热器大致上围绕着该制程腔体槽；一托架具有多个工件容纳位置，该制程腔体槽可自一第一槽位置移动至一第二槽位置，于该处该制程腔体槽大致上围绕着该托架；及一冷却围板依托架之位置固定，且该冷却围板在加热器位于第一加热器位置时大致上围绕着该加热器。如请求项1所述之热处理机，更包含一加热机升降器接合在加热器上且被用来将该加热器从该第一加热器位置移至该第二加热器位置。如请求项2所述之热处理机，其中该加热器升降器延伸进入该冷却围板中。如请求项1所述之热处理机，更包含一槽升降器可使该槽与该冷却套管一起移动。如请求项1所述之热处理机，其中该槽、加热器及冷却套管都具有筒状侧壁，且该槽、加热器及冷却套管大致上都同圆心。如请求项1所述之热处理机，其中该托架包含至少一上层板与至少一下层板，且其工件容纳位置位于该上层板与下层板之间。如请求项1所述之热处理机，其中该冷却套管含有套管冷却线圈而该冷却围板含有围板冷却液线圈，更包含一冷却液供应端连接到该套管冷却线圈与围板冷却线圈。一种用以热处理一整批工件之方法，包含：将工件载入一托架中；将一制程腔体槽移入一围绕着该托架之位置处；将制程腔体槽密封；将一加热器大致上移入一围绕着该制程腔体槽之位置处；用加热器加热位于该制程腔体中之工件；将加热器自围绕该制程腔体槽之位置处移至一大致上位于冷却围板内的位置处；用一围绕着制程腔体之冷却套管来吸收该制程腔体槽发出之辐射热以冷却至少部分的工件；及将该制程腔体槽与冷却套管自托架周围移开。如请求项8所述之方法，更包含用一底座加热器加热该工件。如请求项8所述之方法，更包含将加热器关掉，并在该工件被冷却至预设温度以下后将该加热器移回一至少部分围绕着该制程腔体槽之位置处。如请求项8所述之方法，更包含提供制程气体给该制程腔体。如请求项8所述之方法，更包含在加热器被移入一大致上围绕制程腔槽周围之位置处前将该加热器关掉。一种工件处理系统，包含：一或多个批次式热处理机，其包含：一制程腔体槽；一冷却套管大致上围绕着该制程腔体槽；一加热器可自一第一加热器位置移动至一第二加热器位置，于该处该加热器大致上位于该制程腔体槽与该冷却套管之间，且该加热器大致上围绕着该制程腔体槽；一托架具有多个工件容纳位置，其制程腔体槽可自一第一槽位置处移动至一第二槽位置处，于该处该制程腔体槽大致上围绕者该托架；及一冷却围板依托架之位置固定，且该冷却围板在加热器位于第一加热器位置时大致上围绕着该加热器；复数个单片式晶圆处理机；及一机械臂可将一或多个工件自批次式热处理机移动至一或多个单片式晶圆处理机。如请求项13所述之工件处理系统，其中该一或多个单片式晶圆处理机包含旋转/涂布处理机。如请求项13所述之工件处理系统，更包含一机壳，该机壳内部含有批次式热处理机、复数个单片式晶圆处理机，以及机械臂。一种热处理系统，包含：一机壳；一载入/载出开口位于机壳上；一或多个批次式热处理机位于机壳内，包含一制程腔体槽；一冷却套管大致上围绕着该制程腔体槽；一加热器可自一第一加热器位置移动至一第二加热器位置，于该处该加热器大致上位于该制程腔体槽与该冷却套管之间，且该加热器大致上围绕着该制程腔体槽；一托架具有多个工件容纳位置，其制程腔体槽可自一第一槽位置处移动至一第二槽位置处，于该处该制程腔体槽大致上围绕者该托架；一冷却围板依托架之位置固定，且在加热器位于该第一加热器位置时该冷却围板大致上围绕着该加热器；及一机械臂可移动以将工件自该载入/载出开口运载至一批次式热处理机。一种热处理机，包含：一制程缸；一托架位于制程缸内，该托架具有多个工件容纳位置；加热工具用以加热制程缸内的工件；缸冷却工具用以吸收来自该制程缸内部工件发出的热；及加热器冷却工具依托架之位置固定，且该加热工具可自一大致上由加热器冷却工具围绕之位置移动至一大致上位于该制程缸周围之位置处。如请求项17所述之热处理机，更包含藉强制对流来冷却该制程腔体。一种装置，包含：一制程缸；一制程缸升降器接合在该制程缸上；一冷却套管设置在该制程缸周围；一冷却套管升降器接合在该冷却套管上；一加热器；一加热器升降器接合在该加热器上，以使加热器在一第一加热器位置与一第二加热器间做移动，且当该加热器位于该第二加热器位置时，该加热器大致上位于该冷却套管与该制程缸之间；一托架具有多个晶圆容纳位置，该制程缸可自一制程缸位置处移动至一第二制程制程缸位置处，于该处该制程缸大致上围绕者该托架；及一冷却围板依托架之位置固定，且在该加热器位于该第一加热器位置时该冷却围板大致上围绕着该加热器。