发明名称 Método para generar grietas en varilla de silicio policristalino y aparato de generación de grietas
摘要 <p>Metodo de generaci6n de grietas en una varilla de silicio policristalino, que comprende:5 calentar una varilla de silicio policristalino;posteriormente realizar un enfriamiento de parte local de la varilla de silicio policristalino para aplicar unfluido refrigerante sobre at menos una zona a modo de punto de una superficie de la varilla de siliciopolicristalino; yrealizar un enfriamiento completo para hacer que una sustancia refrigerante entre en contacto con unasuperficie completa de la varilla de silicio policristalino tras el enfriamiento de parte local,caracterizado porque el fluido refrigerante se expulsa desde boquillas dispuestas a ambos lados de lavarilla de silicio policristalino,porque una pluralidad de boquillas estan dispuestas con espacios entre boquillas adyacentes a cada ladode la varilla de silicio policristalino a lo largo de una direcciOn longitudinal de la varilla de tat manera que unaposicion sustancialmente central de cada espacio entre boquillas adyacentes en un primer lado estaenfrentada a una boquilla en un segundo lado, yporque cada una de las zonas a modo de punto tiene un diametro no inferior a 0,20 D y no superior a 0,32D, en el que D representa un diametro de la varilla de silicio policristalino.</p>
申请公布号 ES2387613(T3) 申请公布日期 2012.09.27
申请号 ES20100171153T 申请日期 2010.07.28
申请人 MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 发明人 HAYASHIDA, SYUUHEI
分类号 C30B15/02;B02C19/18;C30B15/00;C30B29/06 主分类号 C30B15/02
代理机构 代理人
主权项
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