| 发明名称 | 放射线敏感性树脂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供作为抗蚀剂的基本物性优异、并且形成接触孔图案时的圆形性和CD均匀性优异的放射线敏感性树脂组合物。本放射线敏感性树脂组合物是含有在酸的作用下成为碱可溶性的含有酸解离性基团的树脂(A)、酸发生剂(B)和溶剂(C)的放射线敏感性树脂组合物，上述树脂(A)含有下述通式(1)和(2)表示的各重复单元。<img file="dpa00001014856400011.GIF" wi="1068" he="510" />。R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>各自表示氢原子或碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，R<sup>3</sup>表示碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，X表示氢原子、羟基或酰基，m为1～18的整数，n为4～8的整数。 | ||
| 申请公布号 | CN101772735B | 申请公布日期 | 2012.09.26 |
| 申请号 | CN200880101869.8 | 申请日期 | 2008.07.30 |
| 申请人 | JSR株式会社 | 发明人 | 大塚升;川上峰规;西村幸生;杉浦诚 |
| 分类号 | G03F7/039(2006.01)I;C08F220/12(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/039(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 左嘉勋;顾晋伟 |
| 主权项 | 1.一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有(A)在酸的作用下成为碱可溶性的含有酸解离性基团的树脂、(B)放射线敏感性酸发生剂和(C)溶剂，所述(A)含有酸解离性基团的树脂含有下述通式1表示的重复单元和下述通式2表示的重复单元，(A)含有酸解离性基团的树脂中所述通式1表示的重复单元的含有率，以(A)含有酸解离性基团的树脂中含有的全部重复单元的合计为100摩尔％时，为5～30摩尔％，(A)含有酸解离性基团的树脂中所述通式2表示的重复单元的含有率，以(A)含有酸解离性基团的树脂中含有的全部重复单元的合计为100摩尔％时，为5～70摩尔％，<img file="FSB00000731193700011.GIF" wi="781" he="388" />通式1中，R<sup>1</sup>表示氢原子或碳原子数1～4的烷基，X表示氢原子或羟基，m为1～18的整数，<img file="FSB00000731193700012.GIF" wi="720" he="428" />通式2中，R<sup>2</sup>表示氢原子或碳原子数1～4的烷基，R<sup>3</sup>表示碳原子数1～4的烷基，n为4～8的整数。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||