电子级多晶硅生产中提纯三氯氢硅气相直进还原系统及工艺

摘要

本发明涉及电子级多晶硅生产中提纯三氯氢硅气相直进还原系统及工艺，气相高纯三氯氢硅从提纯产品塔(2)塔釜通过气相采出设备(5)，依次经过液体导流部件(12)、一级除雾器(11)和二级除雾器(9)除去气相中夹带的液相三氯氢硅，直接采出高纯气相三氯氢硅，通过气体输送系统(8)进入还原系统(7)生产多晶硅，在高纯三氯氢硅气体输送系统(8)设有温度控制系统(6)，使气相三氯氢硅温度可控。本发明可有效去除气相中夹带的液相三氯氢硅。在伴热系统管内设有静态混合器组件，可避免气体受热不均现象，气体输送管道通过温度控制系统控制管道内气体的过热度。本发明可使系统能耗降低30％，获得电子级多晶硅产品。

主权项

一种精馏提纯三氯氢硅产品气相直接进还原系统，包括提纯产品塔（2）、三氯氢硅气相采出设备（5）、温度控制系统（6）和还原系统（7）；其特征是在提纯产品塔（2）和还原系统（7）之间设置有三氯氢硅气相采出设备（5）和温度控制系统（6）；所述的三氯氢硅气相采出设备包括：气体输送系统（8）、二级除雾器（9）、导流管（10）、一级除雾器（11）和液体导流部件（12）；在气相采出设备采出口下端设置液体导流部件（12），液体导流部件为喇叭状，边缘开齿形槽，在二级除雾器下设有导流管（10）；所述的气体输送系统包括：伴热介质出入口（13）、伴热管（14）、静态混合器（15）和气体输送管道（16）；伴热管设在气体输送管道外，螺旋管结构；静态混合器位于气体输送管道内。