发明名称 反射膜用Al-Ni-B合金材料
摘要 本发明系关于反射型的显示装置,提供一种具备有优异的反射特性之同时,能进行与ITO(铟锡氧化物)或IZO(铟锌氧化物)等的透明电极层直接接合之反射膜用Al系合金材料。;详言之,本发明系铝中含有镍及硼之反射膜用Al-Ni-B合金材料,其特征为:镍含量为1.5 at%(原子百分数)至未满4 at%、硼含量为0.1 at%至0.5 at%,而余量为铝。再者,如镍含量为1.5 at%至3 at%,硼含量为0.1 at%至0.4 at%,则更佳。
申请公布号 TWI372787 申请公布日期 2012.09.21
申请号 TW096132837 申请日期 2007.09.04
申请人 三井金属鑛业股份有限公司 发明人 松浦宜范;附田龙马;占部宏成;久保田高史
分类号 C22C21/00 主分类号 C22C21/00
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 一种反射膜用Al-Ni-B合金材料,系铝中含有镍及硼之反射膜用Al-Ni-B合金材料,其特征为:含有1.5 at%至未满4 at%的镍、及0.1 at%至0.5 at%的硼,而余量为铝。如申请专利范围第1项之反射膜用Al-Ni-B合金材料,其中镍量在1.5 at%至3 at%、硼含量在0.1 at%至0.4 at%。一种反射型显示装置之元件构造,系具备有由申请专利范围第1项或第2项之反射膜用Al-Ni-B合金材料所形成之反射膜层、及透明电极层之反射型显示装置的元件构造,其特征为:前述反射膜层具有经直接接合于半导体层之部分。一种溅射靶,系为了形成由反射膜用Al-Ni-B合金材料所成之反射膜的溅射靶,其特征为:含有1.5 at%至未满4 at%的镍、及0.1 at%至0.5 at%的硼,余量为铝。
地址 日本