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一种去氧剂，其特征在于：其系将含氧铈盐或其水合物在还原气氛下以1000℃以上焙烧而得，并含有具有三方晶型之结晶构造、且以Ce2O3-x(x系大于0、小于1之数)表示之氧化铈。如请求项1之去氧剂，其中于氧化铈中添加有使该氧化铈之氧吸收量增大之元素。一种去氧体，系将如请求项1之去氧剂收容于具有抗透气度之袋状包装体内而成。一种去氧树脂组合物，其系含有如请求项1之去氧剂与具有氧易透过性之树脂。如请求项4之去氧树脂组合物，其具有颗粒状、薄膜状、或盘状之形状。一种去氧积层体薄膜，系于如请求项4之去氧树脂组合物所构成之去氧层之一面，积层具有气体障壁性之气体障壁层，且于该去氧层之另一面，积层具有氧易透过性之氧易透过层而成者。如请求项6之去氧积层体薄膜，其中于去氧层与气体障壁层之间，进而积层有对物理性冲击具有缓冲作用之缓冲层，且于气体障壁层之外侧，进一步积层有与该气体障壁层相比阻隔氧透过之能力更高之高度气体障壁层。一种氧化铈之制造方法，其中前述氧化铈具有三方晶型之结晶构造、且以Ce2O3-x(x系大于0、小于1之数)表示，前述氧化铈之制造方法包含将含氧铈盐或其水合物在还原气氛下以1000℃以上焙烧之步骤。 |
