一种修正光罩布局图形的方法

摘要

兹揭示一种修正布局图形之方法。首先，提供一布局图形，包含至少一段落，其中前述段落设有复数个评估点，然后，解译布局图形，以获得一解译图形和一段落解译图形，前述之段落解译图形系为解译后之段落，之后，计算段落与段落解译图形，分别对应评估点之偏移量，接着，以偏移量计算出两相邻之评估点的偏移量梯度，最后依据偏移量梯度，评估两相邻之评估点之间的切分数。

主权项

一种修正光罩布局图形的方法，包含：提供一布局图形，包含至少一段落(edge)，其中该段落包含至少一第一评估点和一第二评估点；解译(interpret)该布局图形，以获得一解译图形，其中该解译图形包含一段落解译图形，其中该段落解译图形包含一对应该第一评估点的第三评估点和一对应该第二评估点的第四评估点；计算该第一评估点和该第三评估点之间距，获得一第一偏移量；计算该第二评估点一该第四评估点之间距，获得一第二偏移量；计算该第一偏移量和该第二偏移量之间的一偏移变化量；以及依据该偏移变化量评估该第一评估点和该第二评估点之间的切分数(segments)。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该偏移变化量和该切分数成正比。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该第一评估点和该第三评估点位于同一X轴上。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该第一评估点和该第三评估点位于同一Y轴上。如申请专利范围第1、3项所述之方法，其中该第二评估点和该第四评估点位于同一X轴上。如申请专利范围第1、4项所述之方法，其中该第二评估点和该第四评估点位于同一Y轴上。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该段落位于一线段终点。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该段落位于一T型区域。如申请专利范围第1项所述之方法，其中计算该偏移变化量系利用以下方程式：Δi>S/i>=(i>S/i>1-i>S/i>2)÷i>h/i>Δi>S/i>为该偏移变化量、i>S/i>2为该第二偏移量、i>S/i>1为该第一偏移量、i>h/i>为该第一评估点和该第二评估点之间的间距。一种修正光罩布局图形的方法，包含：提供一布局图形，包含至少一段落，其中该段落设有复数个评估点；解译该布局图形，以获得一解译图形和一段落解译图形，该段落解译图形系为解译后之该段落；计算该段落与该段落解译图形，分别对应该等评估点之偏移量；以该等偏移量计算出两相邻之该评估点的偏移量梯度(shift gradient)；以及依据该等偏移量梯度，评估该两相邻之该评估点之间的切分数。如申请专利范围第10项所述之方法，其中该偏移量梯度和该切分数成正比。如申请专利范围第10项所述之方法，其中该等评估点位于同一X轴上。如申请专利范围第10项所述之方法，其中该等评估点位于同一Y轴上。