发明名称 基板上隔垫物制造方法
摘要 本发明公开了一种隔垫物制造方法,包括:在基板上涂布一层光刻胶,放入烤箱烘烤,烤箱中设有冷却触点,冷却触点温度低于烘烤温度,冷却触点接触光刻胶,一段时间后冷却触点移走,光刻胶在与冷却触点接触的位置形成突起;将基板移出烤箱,对基板上的光刻胶进行无掩膜板的低曝光量曝光和显影,以去除突起以外的光刻胶,基板上保留的突起即为隔垫物。本发明提供一定的温度差在正性光刻胶表面,形成表面张力梯度,使光刻胶向形成隔垫物的区域流动,该区域膜厚增大,其他部位膜厚变小,再经低曝光量曝光、显影后得到隔垫物图形,无需使用掩膜板,降低成本;节省了量产中掩膜板对位时间,提高生产效率;避免了掩膜板对位不精确造成的不良,提高良品率。
申请公布号 CN102681261A 申请公布日期 2012.09.19
申请号 CN201110366968.2 申请日期 2011.11.17
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 舒适;薛建设;赵吉生;李琳;周伟峰
分类号 G02F1/1339(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/38(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I 主分类号 G02F1/1339(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 韩国胜;王莹
主权项 一种基板上隔垫物制造方法,其特征在于,包括以下过程:在基板上涂布一层光刻胶,放入烤箱烘烤,所述烤箱中设有冷却触点,所述冷却触点的温度低于烘烤温度,冷却触点接触光刻胶,一段时间后将冷却触点移走,继续进行烘烤,光刻胶在与冷却触点接触的位置形成突起;将基板移出烤箱,对基板上的光刻胶进行无掩膜板的低曝光量曝光和显影,以去除突起以外的光刻胶,基板上保留的突起即为隔垫物。
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