基板处理装置以及基板处理方法

摘要

一种基板处理装置和基板处理方法，在清洗基板后，基板进行旋转的状态下，液体供给喷嘴一边喷出冲洗液，一边从基板的中心部上方向外方移动。此时，没有冲洗液的干燥区域在基板上扩大。若液体供给喷嘴移动至基板周边部上方，则基板的旋转速度下降。液体供给喷嘴的移动速度维持原状态。然后，停止喷出冲洗液，并且，液体供给喷嘴移动到基板的外方。由此，干燥区域扩展到基板上整体，基板被干燥。

主权项

一种基板处理装置，相邻于曝光装置而配置，其特征在于，该基板处理装置具有：处理部，其用于对基板进行处理；交接部，其用于在所述处理部和所述曝光装置之间进行基板的交接；所述处理部和所述交接部中的至少一个包括进行基板的干燥处理的干燥处理单元，所述干燥处理单元包括：基板保持装置，其将基板保持为近似水平；旋转驱动装置，其使由所述基板保持装置保持的基板围绕垂直于该基板的轴进行旋转；冲洗液供给部，其向由所述基板保持装置保持的基板上供给冲洗液；冲洗液供给移动机构，其使所述冲洗液供给部移动，以便从旋转的基板的中心部向周边部连续地供给冲洗液；气体供给部，其在由所述冲洗液供给部向基板的从中心离开的位置处供给冲洗液的状态下，向基板的中心部吹出气体；所述旋转驱动装置在通过冲洗液供给移动机构移动所述冲洗液供给部的期间，使基板的旋转速度阶段性地或者连续性地变化，使得在向基板的中心部供给冲洗液的状态下，使基板以第一旋转速度旋转，在向基板的周边部供给冲洗液的状态下，使基板以低于所述第一旋转速度的第二旋转速度旋转。