发明名称 胶体磨料之磁力抛光装置
摘要 本创作系有关于一种胶体磨料之磁力抛光装置,其包括有:基座、第一、第二容槽、压缩弹簧、导磁制具及胶体磨料。第一容槽盖设于基座上,其内活设一可滑移的活塞板与第一容槽以定义出第一容室。压缩弹簧,其一端抵住活塞板,另一端抵住基座。第二容槽,其内活设一可滑移的活塞块与第二容槽以定义出第二容室。导磁制具包括可与第一、第二容室连通的抛光通道及磁性元件,并于其内充填胶体磨料,而磁性元件系布设于抛光通道中至少一区段之环周。其中,当活塞块往复移动并经由胶体磨料连动活塞板同步移动时,胶体磨料会在第一、第二容室及抛光通道内移动,并与导磁制具中的磁性元件相互吸附,则可对工件进行抛光作业。
申请公布号 TWM437226 申请公布日期 2012.09.11
申请号 TW101207582 申请日期 2012.04.24
申请人 清云科技大学 桃园县中坜市健行路229号 发明人 梁国柱;王阿成;连俊彦
分类号 B24B31/112 主分类号 B24B31/112
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;丁国隆 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 桃园县中坜市健行路229号