发明名称 光敏性化合物、光敏性组成物、形成光阻图案的方法、及使用彼来制造装置的方法
摘要 本发明系关于一种光敏性化合物,其一个分子具有二或多个下列通式(1)所示之结构单元:;(1);其中R1至R5系选自氢原子、卤素原子、烷基、烷氧基、乙醯氧基、苯基、萘基、及部份或所有之氢原子经氟原子取代的烷基;及X为经取代或未经取代之伸苯基或经取代或未经取代之伸萘基。
申请公布号 TWI372148 申请公布日期 2012.09.11
申请号 TW097103335 申请日期 2008.01.29
申请人 佳能股份有限公司 日本 发明人 伊藤俊树;山口贵子
分类号 C07D311/08;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 C07D311/08
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本