| 摘要 |
Le dispositif de production de nanoparticules comprend une cible (1) munie d'une face (1a) source des nanoparticules, et un magnétron (2) générant un premier champ magnétique, la cible (1) étant montée sur le magnétron (2) et le premier champ magnétique formant des lignes de champ au niveau de la face (1a) source des nanoparticules. Le dispositif comporte en outre des moyens d'équilibrage (7, 8, 9), du premier champ magnétique au niveau de la cible (1), agencés pour refermer des lignes de champ fuyantes du premier champ magnétique et maintenir lesdites lignes refermées au niveau de ladite face (1a) source des nanoparticules, lesdits moyens d'équilibrage (7, 8, 9) étant distincts du magnétron (2). |
