一种采用背面保温层技术激光晶化多晶硅薄膜的方法

摘要

一种采用背面保温层技术激光晶化多晶硅薄膜的方法，步骤如下：在玻璃衬底正面上沉积阻挡层；在阻挡层上沉积晶化前驱物；在上述玻璃衬底背面沉积非晶硅薄膜保温层；用激光器扫描玻璃衬底正面的晶化前驱物表面，晶化完成后形成多晶硅表面；在多晶硅表面旋涂一层光刻胶；通过湿法刻蚀的方法，用Freckle试剂去除衬底背面的非晶硅保温层；将样品浸入去胶剂去掉多晶硅表面的光刻胶即可。本发明的优点是：可有效提高激光晶化多晶硅的性能，且工艺简单、工艺窗口宽、易于实施，不会对形成的多晶硅造成任何影响；所制得的多晶硅薄膜可广泛应用于制备多晶硅薄膜晶体管、显示器光电子器件、面阵敏感器、平板显示基板等，具有重要的实用价值。

主权项

一种采用背面保温层技术激光晶化多晶硅薄膜的方法，其特征在于包括如下步骤：1)、在玻璃衬底正面上沉积阻挡层；2)、在上述阻挡层上沉积晶化前驱物；3)、在上述玻璃衬底背面沉积非晶硅薄膜保温层；4)、用激光器扫描玻璃衬底正面的晶化前驱物表面，晶化完成后形成多晶硅表面；5)、在上述多晶硅表面旋涂一层光刻胶；6)、通过湿法刻蚀的方法，去除衬底背面的非晶硅保温层；7)、将样品浸入去胶剂10分钟，去掉多晶硅表面的光刻胶。