| 发明名称 | 具有斥水性区域的图案的处理基材及其制造方法、以及形成有功能性材料的膜构成的图案的构件的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供表面具备对比度高的斥水性区域的处理基材及其制造方法。所述基材是在基材表面具有斥水性区域的图案的处理基材，其特征在于，该斥水性区域由使固化性组合物固化而获得的斥水性固化膜形成，该固化性组合物包含具有与硅原子结合的氢原子和光固化性基团的聚有机硅氧烷(A1)或者具有与硅原子结合的氢原子但不具有光固化性基团的聚有机硅氧烷(A2)和具有光固化性基团的化合物(B)，还包含根据需要任意使用的光固化促进化合物(C)。 | ||
| 申请公布号 | CN101622579B | 申请公布日期 | 2012.09.05 |
| 申请号 | CN200880006533.3 | 申请日期 | 2008.02.28 |
| 申请人 | 旭硝子株式会社 | 发明人 | 古川丰 |
| 分类号 | G03F7/075(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/075(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 刘多益;胡烨 |
| 主权项 | 处理基材，它是在基材表面具有斥水性区域的图案的处理基材，其特征在于，该斥水性区域由使固化性组合物固化而获得的斥水性固化膜形成，该固化性组合物包含下述化合物(A1)或者下述化合物(A2)和下述化合物(B)，还包含根据需要任意使用的光固化促进化合物(C)，化合物(A1)：具有与硅原子结合的氢原子和光固化性基团的聚有机硅氧烷，化合物(A2)：具有与硅原子结合的氢原子但不具有光固化性基团的聚有机硅氧烷，化合物(B)：具有光固化性基团的化合物；其中，光固化性基团是丙烯酰基或甲基丙烯酰基，光固化促进化合物(C)是利用光产生自由基的自由基产生剂。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||