发明名称 |
光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法以及涂布装置 |
摘要 |
本发明的课题在于提供能够通过良好的浸湿来形成均匀抗蚀膜的光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法以及涂布装置。本发明所述的光掩模坯料的制造方法包括:利用涂布装置所具备的喷嘴(22)的毛细管现象使抗蚀液(21)上升,使上升后的抗蚀液(21)浸湿基板(10)的朝向下方的被涂布面(10a),并使喷嘴(22)和基板(10)相对移动而在被涂布面(10a)形成抗蚀膜,其中,当进行浸湿时,使喷嘴的一端比另一端更接近被涂布面,由此使所述喷嘴内的所述涂布液在所述喷嘴的一端最初浸湿被涂布面,并以所述最初浸湿的点作为浸湿起点,遍及一定长度的喷嘴的全长进行浸湿作业。 |
申请公布号 |
CN101937169B |
申请公布日期 |
2012.09.05 |
申请号 |
CN201010221202.0 |
申请日期 |
2010.06.30 |
申请人 |
HOYA株式会社 |
发明人 |
山口昇;松本浩治 |
分类号 |
G03F1/26(2012.01)I;G03F7/16(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/26(2012.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
党晓林;李艳艳 |
主权项 |
一种光掩模坯料的制造方法,经过下述工序得到光掩模坯料:利用毛细管现象使抗蚀液上升到涂布装置所具备的喷嘴的沿着长度方向开口的上端部,使上升到所述喷嘴的上端部的所述抗蚀液浸湿基板的朝向下方的被涂布面,并使所述喷嘴和所述基板沿着与所述喷嘴的长度方向正交的方向相对移动,在所述被涂布面形成抗蚀膜,其特征在于,当进行所述浸湿时,使所述喷嘴的上端部的长度方向的一端比该上端部的长度方向的另一端更接近所述被涂布面,由此使上升到所述喷嘴的上端部的所述抗蚀液从所述喷嘴的上端部的长度方向的一端先浸湿所述被涂布面,以所述抗蚀液最初浸湿所述被涂布面的所述喷嘴的上端部的长度方向的一端作为浸湿起点,遍及所述喷嘴的上端部的长度方向的涂布面宽度方向全长进行浸湿,进行了所述浸湿之后,使所述喷嘴的长度方向的一端下降并使所述喷嘴处于水平,并随后在所述喷嘴与所述被涂布面之间形成适当的涂布空隙。 |
地址 |
日本东京都 |