发明名称 |
一种具有防核辐射功能的横“U”型被动式光路结构 |
摘要 |
本实用新型涉及一种具有防核辐射功能的横“U”型被动式光路结构,包括屏蔽框架、屏蔽层、镜面反射面、电子摄像机,屏蔽框架为近似横“U”型的钢结构固定架,包括上屏蔽框、下屏蔽框及侧屏蔽框,镜面反射面为两个,分别与上屏蔽框、侧屏蔽框、下屏蔽框成45度夹角;电子摄像机安装在屏蔽空间内靠近开口的一侧;屏蔽层设置在电子摄像机的背面及两个侧面;所述的电子摄像机设置在靠近上屏蔽框的位置;在所述的电子摄像机背面及侧面设置的屏蔽层均为钨镍合金屏蔽层与聚乙烯屏蔽层复合的方式,其中电子摄像机背面是指正对着辐射源的一面。本实用新型结构巧妙、适应亮度范围广、应用效果好,适合具有强核辐射特征的目标体的事故前后的监视和记录。 |
申请公布号 |
CN202422775U |
申请公布日期 |
2012.09.05 |
申请号 |
CN201220018685.9 |
申请日期 |
2012.01.16 |
申请人 |
赵小鹏 |
发明人 |
菅强;耿耀民;贺勇;朱海波;刘伟 |
分类号 |
G21F3/00(2006.01)I;G02B17/06(2006.01)I |
主分类号 |
G21F3/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 |
代理人 |
王顺荣;唐爱华 |
主权项 |
一种具有防核辐射功能的横“U”型被动式光路结构,其特征在于:该结构具体包括用于固定光路结构的屏蔽框架、屏蔽层、镜面反射面、电子摄像机,其中所述的屏蔽框架为近似横“U”型的钢结构固定架,包括上屏蔽框、下屏蔽框及侧屏蔽框,形成一侧面有开口的屏蔽空间,所述的镜面反射面为两个,分别与上屏蔽框、侧屏蔽框、下屏蔽框成45度夹角,使得屏蔽空间内的入射光线经两次反射后与反射光线平行;电子摄像机安装在屏蔽空间内靠近开口的一侧;屏蔽层设置在电子摄像机的背面及两个侧面,其中所述的电子摄像机的背面是指正对着辐射源的一面;正对辐射源的一面的屏蔽层与侧面的屏蔽层的厚度之比是8∶1;所述的电子摄像机设置在靠近下屏蔽框的位置;在所述的电子摄像机侧面设置的屏蔽层为钨镍合金屏蔽层,在电子摄像机背面即正对着辐射源的一面设置的屏蔽层为钨镍合金屏蔽层与聚乙烯屏蔽层复合的方式。 |
地址 |
102205 北京市昌平区阳坊镇中心北街1号 |