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发明名称
使用干涉及无遮罩曝照单元之微影装置及元件制造方法
摘要
一种微影系统结合一干涉曝照单元及一微影单元。该微影单元可包含一可个别控制元件阵列。该微影系统可经配置以致使由该干涉曝照单元曝照之复数条线之一间距系与一单一可个别控制元件相对应之该微影单元的一曝照区尺寸的整数倍。
申请公布号
TWI371661
申请公布日期
2012.09.01
申请号
TW095145557
申请日期
2006.12.07
申请人
ASML荷兰公司 荷兰
发明人
卡尔斯 柴格 托斯特;阿诺 珍 布莱克
分类号
G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
荷兰
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