发明名称 成膜装置及成膜方法
摘要 本发明旨在提供一种能快速、均匀地成膜,避免原料之浪费的成膜装置及成膜方法,能利用气体之气流控制成膜条件,以输送气体之气流将蒸发之成膜材料送至基板表面,可于大面积之基板上层积均匀的薄膜。亦即,将气化原料定方向为朝向基板,以提高成膜速度,可均匀地成膜。
申请公布号 TWI371501 申请公布日期 2012.09.01
申请号 TW094109705 申请日期 2005.03.29
申请人 大见忠弘 日本;东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 大见忠弘;松冈孝明
分类号 C23C14/54;C23C14/12 主分类号 C23C14/54
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼
主权项
地址 日本