发明名称 |
喷头组件和包括该喷头组件的薄膜沉积装置 |
摘要 |
本发明提供一种用于在基板上沉积薄膜的喷头组件以及具有该喷头组件的薄膜沉积装置。喷头组件包括:多个注气单元,径向置于基板上,其中每个注气单元包括接收部和多个注入孔,所述接收部被配置为接收从外部提供的气体,所述多个注入孔被配置为在接收部内注入气体,其中,所述多个注气单元的至少一个注气单元包括:其中限定的接收部;喷头体,包括被配置为向接收部提供第一气体的第一入口和向接收部提供第二气体的第二入口,所述喷头体包括位于其底部的多个第一注入孔和多个第二注入孔,其中,第一注入孔和第二注入孔通过所述喷头体的底部;隔板,具有平板状,并且包括多个通过其中的多个插入孔,所述隔板置于喷头体的接收部中,面对喷头体的底板,以将接收部划分为以第一入口相连接的的第一缓冲部和与第二入口相连接的第二缓冲部;多个注入销,每个注入销具有中空形,多个注入销的每一个包括连接到插入孔的一端以及连接到第一注入孔的另一端;以及电源,被配置为提供电能以在喷头体的接收部内产生等离子体。 |
申请公布号 |
CN102648512A |
申请公布日期 |
2012.08.22 |
申请号 |
CN201080051715.X |
申请日期 |
2010.09.13 |
申请人 |
圆益IPS股份有限公司 |
发明人 |
韩昌熙;柳东浩;李起薰 |
分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
代理机构 |
北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 |
代理人 |
郑青松 |
主权项 |
一种喷头组件,包括:多个注气单元,径向置于基板上,每个注气单元包括接收部和多个注入孔,所述接收部被配置为接收从外部提供的气体,所述多个注入孔被配置为在接收部内注入气体,其中,所述多个注气单元的至少一个注气单元包括:其中限定的接收部;喷头体,包括被配置为向接收部提供第一气体的第一入口和向接收部提供第二气体的第二入口,所述喷头体包括位于其底部的多个第一注入孔和多个第二注入孔,其中,第一注入孔和第二注入孔通过所述喷头体的底部;隔板,其具有平板状,并且包括通过其中的多个插入孔,所述隔板置于喷头体的接收部中,与所述喷头体的底板相对,以将接收部划分为以第一入口通信的第一缓冲部和与第二入口通信的第二缓冲部;多个注入销,,所述多个注入销中的每个注入销具有中空形,且包括连接到插入孔的一端以及连接到第一注入孔的另一端;以及电源,被配置为提供电能以在喷头体的接收部内产生等离子体,其中,所述第一气体被提供到第一缓冲部且通过注入销注入到基板上,第二气体被提供到第二缓冲部且通过第二注入孔注入到基板上。 |
地址 |
韩国京畿道 |