发明名称 |
液体排出方法和液体排出装置 |
摘要 |
本发明涉及液体排出方法和液体排出装置。即使在高密度形成墨点的情况下仍能抑制洇渗。该液体排出方法包括:通过对介质排出当照射电磁波时固化的液体,而在预定的方向上以第一间隔在所述介质形成墨点的第一工序;对形成于介质的墨点照射电磁波的第二工序;通过以位于已被照射电磁波的墨点之间的方式、在预定的方向上以第一间隔形成墨点,从而在预定的方向上以比第一间隔短的第二间隔在介质形成墨点的第三工序;和对形成于介质的所述墨点照射电磁波的第四工序。 |
申请公布号 |
CN101804753B |
申请公布日期 |
2012.08.22 |
申请号 |
CN201010116111.0 |
申请日期 |
2010.02.09 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
蜜泽丰彦 |
分类号 |
B41M7/00(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I |
主分类号 |
B41M7/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
陈海红;段承恩 |
主权项 |
一种液体排出方法,其包括:通过对介质排出在照射电磁波时固化的液体,在预定的方向上以第一间隔在所述介质形成第1墨点的第一工序;对形成于所述介质的所述第1墨点照射电磁波的第二工序;通过以位于已被照射所述电磁波的所述第1墨点之间的方式、在所述预定的方向上以所述第一间隔形成第2墨点,在所述预定的方向上以比所述第一间隔短的第二间隔在所述介质形成所有墨点的第三工序;和对形成于所述介质的所述所有墨点照射电磁波的第四工序。 |
地址 |
日本东京都 |