发明名称 一种具有P型埋层的超结纵向双扩散金属氧化物半导体管
摘要 一种具有P型埋层的超结纵向双扩散金属氧化物半导体管,包括:兼做漏区的N型掺杂硅衬底、N型掺杂硅外延层、超结结构,所述的N型掺杂硅外延层设在N型掺杂硅衬底上,超结结构设在N型硅掺杂半导体区上,所述的超结结构由相互间隔的P型柱和N型柱组成,在P型柱上有第一P型掺杂半导体区,且第一P型掺杂半导体区位于N型掺杂外延层内,在第一P型掺杂半导体区中设有第二P型重掺杂半导体接触区和N型重掺杂半导体源区,其特征在于,在N型柱表面有轻掺杂的P型埋层,且P型埋层在N型柱内。
申请公布号 CN102646711A 申请公布日期 2012.08.22
申请号 CN201210101013.9 申请日期 2012.04.06
申请人 东南大学 发明人 钱钦松;祝靖;张龙;杨卓;孙伟锋;陆生礼;时龙兴
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人 汤志武
主权项 一种具有P型埋层的超结纵向双扩散金属氧化物半导体管,包括:兼做漏区的N型掺杂硅衬底(1)、N型掺杂硅外延层(2)、超结结构(3),所述的N型掺杂硅外延层(2)设在N型掺杂硅衬底(1)上,超结结构(3)设在N型硅掺杂半导体区(2)上,所述的超结结构(3)由相互间隔的P型柱(4)和N型柱(5)组成,在P型柱上有第一P型掺杂半导体区(6),且第一P型掺杂半导体区(6)位于N型掺杂外延层(2)内,在第一P型掺杂半导体区(6)中设有第二P型重掺杂半导体接触区(13)和N型重掺杂半导体源区(12),在N型柱(5)上设有栅氧化层(8),在栅氧化层(8)上方设有多晶硅栅(9),在多晶硅栅(9)上设有第一型氧化层(10),在第二P型重掺杂半导体接触区(13)和N型重掺杂半导体源区(12)上连接有源极金属(11),其特征在于,在N型柱表面有轻掺杂的P型埋层(7),且P型埋层(7)在N型柱内。
地址 214135 江苏省无锡市新区菱湖大道99号