发明名称 |
台阶微针阵列的制备方法 |
摘要 |
一种生物医学工程技术领域的台阶微针阵列的制备方法,首先通过光刻在硅片上开出硅刻蚀窗口并采用湿法刻蚀硅刻蚀窗口中的硅,然后用切片机切割硅片得到微方柱阵列,并进一步切割微方柱阵列得到若干微方块,最后采用湿法刻蚀微方柱阵列得到台阶微针阵列。本发明制备得到高度不同的微针阵列,此微针阵列通过渐进式刺入皮肤。同时本发明制备过程简单,采用湿法刻蚀和机械加工结合的方法制备此微针阵列,成本低且便于普及。 |
申请公布号 |
CN101829394B |
申请公布日期 |
2012.08.22 |
申请号 |
CN201010157116.8 |
申请日期 |
2010.04.27 |
申请人 |
上海交通大学 |
发明人 |
刘景全;闫肖肖;杨春生;芮岳峰;李以贵 |
分类号 |
A61M37/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
A61M37/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海科盛知识产权代理有限公司 31225 |
代理人 |
蒋亮珠 |
主权项 |
一种台阶微针阵列的制备方法,其特征在于,首先通过光刻在硅片上开出硅刻蚀窗口并采用湿法刻蚀硅刻蚀窗口中的硅,然后用切片机切割硅片得到微方柱阵列,并进一步切割微方柱阵列得到若干微方块,最后采用湿法刻蚀微方柱阵列得到台阶微针阵列;所述的制备方法具体包括以下步骤:第一步、将光刻用正胶旋涂于双抛氧化硅片上作为掩膜,经曝光显影开出刻蚀窗口后用缓冲氢氟酸蚀刻液刻蚀去除窗口中未受正胶保护的双抛氧化硅片上的二氧化硅层,得到硅刻蚀窗口;第二步、采用丙酮溶液以超声振荡方式去除多余光刻胶后,用氢氧化钾溶液刻蚀硅刻蚀窗口中的硅,得到针体窗口;第三步、重复第一步和第二步若干次得到若干深度不同的台阶型结构的针体窗口,然后采用缓冲氢氟酸去除硅片上多余的二氧化硅,并用切片机以针体窗口作为定点进行硅片切割,得到若干高度不同的微方柱阵列;第四步、在室温下用硝酸和氢氟酸的混合酸液动态刻蚀和静态刻蚀刻蚀微方柱阵列,得到台阶微针阵列;所述的动态刻蚀是指搅拌混合液并转动微方柱阵列,使阵列中的微方柱的尺寸快速减小;所述的静态刻蚀是指混合液和微方柱阵列保持静止,形成微针针尖。 |
地址 |
200240 上海市闵行区东川路800号 |