| 摘要 |
<p>본 발명은 기판처리장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 이동챔버의 회전으로 복수의 공정챔버에 기판을 순차적으로 공급함으로써 기판처리를 위한 일련의 공정을 순차적으로 수행할 수 있는 기판처리장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 기판처리장치는 측벽에 복수의 개구부가 형성된 메인챔버; 상기 메인챔버의 내부에 구비되며, 회전에 의해 기판을 이동시키는 적어도 1 이상의 이동챔버; 상기 메인챔버의 개구부 외측에 구비되며, 상기 이동챔버를 통해 공급된 기판에 대하여 소정의 공정을 수행하는 적어도 1 이상의 공정챔버; 및 상기 공정챔버의 외측에 구비되는 마스크 스토커;를 포함한다.</p> |
